[发明专利]正型感光性树脂组合物、经图案化的抗蚀剂膜的形成方法及经图案化的抗蚀剂膜

权利要求书

1.正型感光性树脂组合物，其包含碱溶性树脂(A)及含醌二叠氮基的化合物(B)，

所述含醌二叠氮基的化合物(B)包含下述式(B1)表示的化合物和下述式(B2)表示的化合物，

式(B1)中，D各自独立地为氢原子、或1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酰基，4个D中的至少一个为1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酰基；

式(B2)中，R^b1各自独立地为氢原子、或碳原子数1以上且6以下的烷基，R^b2各自独立地为氢原子、卤素原子、碳原子数1以上且6以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基、或碳原子数3以上且6以下的环烷基，D各自独立地为氢原子、或1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酰基，4个D中的至少一个为1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酰基；

将所述式(B1)表示的化合物的质量设为M1，将所述式(B2)表示的化合物的质量设为M2时，M1/M2为1.2以上且5.0以下。

2.如权利要求1所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述含醌二叠氮基的化合物(B)还包含下述式(B3)表示的化合物及/或下述式(B4)表示的化合物，

式(B3)中，R^b3各自独立地为碳原子数1以上且5以下的烷基，D各自独立地为氢原子、或1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酰基，2+m个D中的至少一个为1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酰基，l及m各自独立地为1或2；

式(B4)中，D各自独立地为氢原子、或1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酰基，3个D中的至少一个为1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酰基。

3.如权利要求2所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述含醌二叠氮基的化合物(B)包含所述式(B3)表示的化合物及所述式(B4)表示的化合物。

4.如权利要求1～3中任一项所述的正型感光性树脂组合物，其中，所述M1与所述M2之和相对于所述含醌二叠氮基的化合物(B)的质量而言的比率为20质量％以上且50质量％以下。

5.经图案化的抗蚀剂膜的形成方法，其包括：

将权利要求1～4中任一项所述的正型感光性树脂组合物涂布于基板而形成涂布膜的工序；

以位置选择性的方式对所述涂布膜进行曝光的工序；和

利用显影液对经曝光的涂布膜进行显影的工序。

6.经图案化的抗蚀剂膜，其是由权利要求1～4中任一项所述的正型感光性树脂组合物形成的。