[发明专利]正型感光性树脂组合物、经图案化的抗蚀剂膜的形成方法及经图案化的抗蚀剂膜

说明书

本发明涉及正型感光性树脂组合物、经图案化的抗蚀剂膜的形成方法及经图案化的抗蚀剂膜。本发明的课题在于提供兼具优异的焦点深度特性和优异的分辨率的正型感光性树脂组合物、使用该正型感光性树脂组合物的经图案化的抗蚀剂膜的形成方法、和由前述正型感光性树脂组合物形成的经图案化的抗蚀剂膜。本发明的解决手段为，在包含碱溶性树脂(A)和含醌二叠氮基的化合物(B)的正型感光性树脂组合物中，使用以特定比率组合包含特定结构的2种含醌二叠氮基的化合物的含醌二叠氮基的化合物(B)。

技术领域

本发明涉及正型感光性树脂组合物、经图案化的抗蚀剂膜的形成方法及经图案化的抗蚀剂膜。

背景技术

作为在基板上形成布线、端子的方法，已知将抗蚀剂图案用作掩模图案而进行金属层的蚀刻、或者将抗蚀剂图案用作电镀用的铸模图案而进行电镀的方法。

作为在基板上形成布线、端子时形成抗蚀剂图案的方法，通常为下述方法：使用由负型感光性组合物形成的干式膜，在基板上形成感光性组合物层，并对该感光性组合物层进行曝光及显影。但是，使用负型感光性组合物时，存在下述问题：分辨率不充分；或者有时难以将抗蚀剂图案从基板剥离；等等。

因此，作为解决上述课题的方法，可举出使用分辨率良好、较容易从基板剥离的正型感光性组合物来形成抗蚀剂图案的方法。

作为能够用于形成由金属构成的布线、端子等的正型感光性组合物，例如，包含甲酚Novolac树脂等碱溶性Novolac树脂、感光剂、和苯并三唑系化合物的感光性组合物是已知的(参见专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-176012号公报

发明内容

发明所要解决的课题

但是，专利文献1所记载那样的正型感光性组合物中，难以同时实现优异的焦点深度(DOF)特性、和优异的分辨率(即，能够在几乎不产生显影残渣的情况下形成微细的图案)。因此，期望向专利文献1所记载那样的正型感光性组合物赋予优异的焦点深度特性及优异的分辨率。

另外，对于感光性组合物，通常要求高敏感度化。然而，通常，使感光性组合物高敏感度化时，容易引起焦点深度特性及分辨率的降低。因此，对于高敏感度的感光性组合物而言，特别期望优异的焦点深度特性与优异的分辨率的兼得。

本发明是鉴于上述课题而作出的，其目的在于提供兼具优异的焦点深度特性和优异的分辨率的正型感光性树脂组合物、使用该正型感光性树脂组合物的经图案化的抗蚀剂膜的形成方法、和由前述正型感光性树脂组合物形成的经图案化的抗蚀剂膜。

用于解决课题的手段

本申请的发明人发现，通过在包含碱溶性树脂(A)和含醌二叠氮基的化合物(B)的正型感光性树脂组合物中，使用以特定比率组合包含特定结构的2种含醌二叠氮基的化合物的含醌二叠氮基的化合物(B)，能够解决上述课题，从而完成了本发明。具体而言，本发明提供以下的方案。

本发明的第1方式为正型感光性树脂组合物，其包含碱溶性树脂 (A)及含醌二叠氮基的化合物(B)，

含醌二叠氮基的化合物(B)包含下述式(B1)表示的化合物和下述式(B2)表示的化合物，

(式(B1)中，D各自独立地为氢原子、或1,2-二叠氮基萘醌-5- 磺酰基，4个D中的至少一个为1,2-二叠氮基萘醌-5-磺酰基。)