[发明专利]一种成像仪及成像系统在审

专利信息
申请号: 202110535625.8 申请日: 2021-05-17
公开(公告)号: CN113138460A 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 褚博华;杨宏建;张奇峰;陈华斌;董懿嘉 申请(专利权)人: 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02B26/08 分类号: G02B26/08
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 马敬;项京
地址: 100176 北京市大兴*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 成像 系统
【权利要求书】:

1.一种成像仪,其特征在于,包括:

底座,所述底座上开设有球面凹槽;

旋转球,所述旋转球的一部分置于所述球面凹槽内,所述旋转球内具有容纳腔体;

镜片,所述镜片固定于所述旋转球上,且所述镜片位于所述球面凹槽外;

磁体,所述磁体固定于所述容纳腔体内;

多个第一电磁铁,所述多个第一电磁铁分布于所述球面凹槽的内壁;

控制器,所述控制器配置为控制任意一个或多个第一电磁铁产生与所述磁体的磁极相吸引的磁力,以通过所述磁力带动所述旋转球转动。

2.根据权利要求1所述的成像仪,其特征在于,所述磁体为电磁铁。

3.根据权利要求2所述的成像仪,其特征在于,所述磁体包括铁芯和套设在所述铁芯上的线圈,所述铁芯位于所述旋转球的中心,且所述铁芯的轴线垂直于所述镜片。

4.根据权利要求2所述的成像仪,其特征在于,所述旋转球的外侧表面具有至少两个导电区,所述至少两个导电区之间具有绝缘区,所述磁体通过所述至少两个导电区与所述控制器电连接。

5.根据权利要求4所述的成像仪,其特征在于,所述成像仪还包括至少两个导电结构,每一导电结构包括:

导电球,所述导电球与一个导电区接触;

导电杆,所述导电杆一端与所述底座固定连接,另一端与所述导电球连接,所述导电球可绕所述导电杆的轴线转动,且所述导电杆与所述控制器电连接。

6.根据权利要求5所述的成像仪,其特征在于,所述成像仪包括四个导电结构,所述四个导电结构固定于所述底座上且沿所述球面凹槽的槽口的四周均匀排布;

所述旋转球的外侧表面具有四个导电区,每相邻两个导电区之间均具有所述绝缘区,每一导电结构的导电球与一个导电区接触。

7.根据权利要求1所述的成像仪,其特征在于,所述成像仪还包括至少一个绝缘小球,所述至少一个绝缘小球位于所述旋转球与所述球面凹槽的内壁之间,且所述绝缘小球的直径大于所述多个第一电磁铁的靠近所述旋转球的一侧与所述球面凹槽的内壁之间的距离。

8.根据权利要求1所述的成像仪,其特征在于,所述成像仪还包括有机膜层,所述有机膜层覆盖所述球面凹槽的内壁的除所述多个第一电磁铁外的其他区域,且所述有机膜层的厚度等于所述多个第一电磁铁的靠近所述旋转球的一侧与所述球面凹槽的内壁之间的距离。

9.根据权利要求1所述的成像仪,其特征在于,所述成像仪还包括:

支撑杆,所述支撑杆位于所述球面凹槽外,所述支撑杆的一端与旋转球固定连接,所述支撑杆的另一端与所述镜片的中心固定连接;或

所述镜片的平面形状为圆形。

10.一种成像系统,其特征在于,所述成像系统包括多个权利要求1至9任一项所述的成像仪,所述成像系统还包括控制单元,所述控制单元与所述多个成像仪的控制器连接。

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