[发明专利]能够朝向布局边缘形成寄生电容的半导体电容阵列布局在审
申请号: | 202110548878.9 | 申请日: | 2021-05-19 |
公开(公告)号: | CN115377092A | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
发明(设计)人: | 黄诗雄 | 申请(专利权)人: | 瑞昱半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L23/522;H01L49/02 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 刘瑞贤 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 能够 朝向 布局 边缘 形成 寄生 电容 半导体 阵列 | ||
1.一种半导体电容阵列布局,能够朝向该半导体电容阵列布局的一边缘形成寄生电容,该半导体电容阵列布局包含:
一第一导电结构,包含:
M个纵向第一导电条位于一第一集成电路层,其中该M为大于二的整数;
N个横向第一导电条位于一第二集成电路层,该N个横向第一导电条经由多个第一通孔耦接该M个纵向第一导电条,且与该M个纵向第一导电条共同地形成[(M-1)×(N-1)]个井形结构,该[(M-1)×(N-1)]个井形结构包含(N-1)个外侧井与{[(M-2)×(N-1)]}个内侧井,该(N-1)个外侧井与该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧井在电性上相连,其中该N为大于一的整数;
一第二导电结构,包含:
[(M-1)×(N-1)]个第二导体位于该第一集成电路层,且分别地位于该[(M-1)×(N-1)]个井形结构中,该[(M-1)×(N-1)]个第二导体包含(N-1)个外侧第二导体与{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体,该(N-1)个外侧第二导体位于该(N-1)个外侧井中,该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体位于该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧井中,该(N-1)个外侧第二导体与该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体在电性上不相连,
其中该M个纵向第一导电条与该N个横向第一导电条用于一第一电压的传输,该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体用于一第二电压的传输,该(N-1)个外侧第二导体用于一预设电压的传输或未用于任何电压的传输,该第一电压不同于该第二电压,也不同于该预设电压,该预设电压不同于该第二电压,该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体中的(N-1)个内侧第二导体最靠近该(N-1)个外侧井,该(N-1)个内侧第二导体与该(N-1)个外侧井共同地形成该寄生电容。
2.如权利要求1所述的半导体电容阵列布局,其中该[(M-1)×(N-1)]个第二导体的每一个包含一导电条或多个导电条。
3.如权利要求1所述的半导体电容阵列布局,其中该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体中的K个第二导体属于P个电容群的一第一电容群,该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体中的L个第二导体属于P个电容群的一第二电容群,该M为大于三的整数,该P为大于一的整数,该K为不大于{[(M-2)×(N-1)]-1}的正整数,该L为不大于{[(M-2)×(N-1)]-K}的正整数。
4.如权利要求1所述的半导体电容阵列布局,其中该(N-1)个外侧第二导体在电性上耦接在一起。
5.如权利要求1所述的半导体电容阵列布局,其中该(N-1)个外侧第二导体的每一个的形状实质地同于该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体的每一个的形状。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的