[发明专利]能够朝向布局边缘形成寄生电容的半导体电容阵列布局在审

专利信息
申请号: 202110548878.9 申请日: 2021-05-19
公开(公告)号: CN115377092A 公开(公告)日: 2022-11-22
发明(设计)人: 黄诗雄 申请(专利权)人: 瑞昱半导体股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L23/522;H01L49/02
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 刘瑞贤
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 能够 朝向 布局 边缘 形成 寄生 电容 半导体 阵列
【权利要求书】:

1.一种半导体电容阵列布局,能够朝向该半导体电容阵列布局的一边缘形成寄生电容,该半导体电容阵列布局包含:

一第一导电结构,包含:

M个纵向第一导电条位于一第一集成电路层,其中该M为大于二的整数;

N个横向第一导电条位于一第二集成电路层,该N个横向第一导电条经由多个第一通孔耦接该M个纵向第一导电条,且与该M个纵向第一导电条共同地形成[(M-1)×(N-1)]个井形结构,该[(M-1)×(N-1)]个井形结构包含(N-1)个外侧井与{[(M-2)×(N-1)]}个内侧井,该(N-1)个外侧井与该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧井在电性上相连,其中该N为大于一的整数;

一第二导电结构,包含:

[(M-1)×(N-1)]个第二导体位于该第一集成电路层,且分别地位于该[(M-1)×(N-1)]个井形结构中,该[(M-1)×(N-1)]个第二导体包含(N-1)个外侧第二导体与{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体,该(N-1)个外侧第二导体位于该(N-1)个外侧井中,该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体位于该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧井中,该(N-1)个外侧第二导体与该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体在电性上不相连,

其中该M个纵向第一导电条与该N个横向第一导电条用于一第一电压的传输,该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体用于一第二电压的传输,该(N-1)个外侧第二导体用于一预设电压的传输或未用于任何电压的传输,该第一电压不同于该第二电压,也不同于该预设电压,该预设电压不同于该第二电压,该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体中的(N-1)个内侧第二导体最靠近该(N-1)个外侧井,该(N-1)个内侧第二导体与该(N-1)个外侧井共同地形成该寄生电容。

2.如权利要求1所述的半导体电容阵列布局,其中该[(M-1)×(N-1)]个第二导体的每一个包含一导电条或多个导电条。

3.如权利要求1所述的半导体电容阵列布局,其中该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体中的K个第二导体属于P个电容群的一第一电容群,该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体中的L个第二导体属于P个电容群的一第二电容群,该M为大于三的整数,该P为大于一的整数,该K为不大于{[(M-2)×(N-1)]-1}的正整数,该L为不大于{[(M-2)×(N-1)]-K}的正整数。

4.如权利要求1所述的半导体电容阵列布局,其中该(N-1)个外侧第二导体在电性上耦接在一起。

5.如权利要求1所述的半导体电容阵列布局,其中该(N-1)个外侧第二导体的每一个的形状实质地同于该{[(M-2)×(N-1)]}个内侧第二导体的每一个的形状。

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