[发明专利]曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，使用包括第1波长范围和第2波长范围的波长范围的光对基板进行曝光，所述曝光装置具有：

照明光学系统，利用所述光对掩模进行照明；以及

投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到所述基板，

所述照明光学系统以在所述照明光学系统的瞳面上将所述照明光学系统的光轴作为中心使第1光强度分布的至少一部分比第2光强度分布更靠内侧的方式形成包括所述第1光强度分布和所述第2光强度分布的光强度分布，所述第1光强度分布是至少包括所述第1波长范围的光的光强度分布，所述第2光强度分布是至少包括所述第2波长范围的光的光强度分布，

在所述曝光装置中，满足所述第1波长范围包括比所述第2波长范围的最短的照明波长更短的波长、或者所述第2波长范围包括比所述第1波长范围的最长的照明波长更长的波长中的至少一方。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第2光强度分布是轮带形状的光强度分布。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1光强度分布是圆形形状的光强度分布。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

在所述瞳面上形成的光强度分布是旋转对称的。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

在将所述投影光学系统的数值孔径设为NA、将所述掩模的图案的周期设为P、将照明波长设为λ、将规定发光区域的照明角度设为σ时，所述光的至少1个λ和σ的组合满足

σ＝λ/(2NA·P)。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1波长范围的光的至少1个λ和σ的组合以及所述第2波长范围的光的至少1个λ和σ的组合满足

σ＝λ/(2NA·P)。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1波长范围和所述第2波长范围中的至少一方包括与汞灯的亮线对应的波长。

8.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1波长范围和所述第2波长范围中的至少一方包括波长宽度为20nm以上的宽频带光。

9.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1波长范围和所述第2波长范围中的至少一方包括汞灯的多个亮线。

10.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1波长范围与汞灯的亮线的g线、h线对应，

所述第2波长范围与汞灯的亮线的i线对应。

11.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1波长范围和所述第2波长范围中的至少一方包括350nm以下的波长。

12.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述照明光学系统包括控制所述多个波长范围中的特定的波长范围的光的透射率来形成所述光强度分布的波长滤波器。

13.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1波长范围的最长的波长是比所述第2波长范围的最短的波长更短的波长。

14.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1波长范围和所述第2波长范围与相互不同的汞灯的亮线对应。