[发明专利]曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法

说明书

本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。在宽带照明光中抑制转印性能的降低。一种使用包括第1波长范围和第2波长范围的波长范围的光曝光基板的曝光装置，具有用光照明掩模的照明光学系统和将掩模的图案的像投影到基板的投影光学系统，照明光学系统以在其瞳面中以其光轴为中心使作为至少包括第1波长范围的光的光强度分布的第1光强度分布的至少一部分比作为至少包括第2波长范围的光的光强度分布的第2光强度分布更靠内侧的方式形成包括第1光强度分布和第2光强度分布的光强度分布，满足第1波长范围包括比第2波长范围的最短的照明波长更短的波长、或者第2波长范围包括比第1波长范围的最长的照明波长更长的波长中的至少一方。

技术领域

本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。

背景技术

曝光装置是将形成在掩模(原版)上的图案转印到平板(基板)的装置，经由照明光学系统对作为被照射面的掩模照射光，经由投影光学系统将掩模的图案的像投影到平板上。

照明光学系统利用来自光源的光照射光学积分器，在与照明光学系统的瞳面相当的光学积分器的射出面上生成2次光源。2次光源在具有预定的形状以及预定的大小的发光区域中形成。另外，形成2次光源的发光区域与对掩模的各点进行照明的光的角度分布对应。

在曝光装置中，作为使针对微细的图案的转印性能提高的技术，已知超分辨率技术(RET：Resolution Enhancement Techniques)。作为RET之一，已知使对掩模的各点进行照明的光的角度分布最优化的变形照明。

在专利文献1中，针对在将图案转印到涂覆有灵敏度低的抗蚀剂的平板上时生产率降低这样的课题，记载了一种通过在照明光学系统内的瞳面上重叠形成波长不同的光强度分布来提高照度的技术。另外，记载了在形成作为变形照明的轮带照明的情况，例如在瞳外侧使用中心波长约为365nm的i线、在瞳内侧使用中心波长约为405nm的h线的例子。

现有技术文献

专利文献1：国际公开第2019/146448号

在专利文献1记载的技术中，通过使用作为RET之一的变形照明在照明光学系统内的瞳面上重叠形成波长不同的光源像，能够提高照度。然而，关于成为光学系统、图案的性能的指标的焦点深度、对比度等，限于由变形照明产生的一般的效果。即，在宽频带的照明光(宽带照明光)中，未成为如充分地发挥转印性能的变形照明的结构。

因此，本发明的目的在于提供一种在宽带照明光中有利于抑制将图案转印到平板上的转印性能降低的曝光装置。

发明内容

为了达成上述目的，作为本发明的一个侧面的曝光装置的特征在于，使用包括第1波长范围和第2波长范围的波长范围的光对基板进行曝光，所述曝光装置具有：照明光学系统，利用所述光对掩模进行照明；以及投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到所述基板，所述照明光学系统以在所述照明光学系统的瞳面上将所述照明光学系统的光轴作为中心使第1光强度分布的至少一部分比第2光强度分布更靠内侧的方式形成包括所述第1光强度分布和所述第2光强度分布的光强度分布，所述第1光强度分布是至少包括所述第1波长范围的光的光强度分布，所述第2光强度分布是至少包括所述第2波长范围的光的光强度分布，所述照明光学系统满足所述第1波长范围包括比所述第2波长范围的最短的照明波长更短的波长、或者所述第2波长范围包括比所述第1波长范围的最长的照明波长更长的波长中的至少一方。

根据以下(参照附图)对示例性实施例的描述，本发明的其他特征将变得清楚。

附图说明

图1是示出曝光装置的结构的示意图。

图2是示出照明光学系统的结构的示意图。

图3是示出针对单一波长的轮带照明的最佳的照明条件的图。

图4是示出针对多个波长的轮带照明的最佳的照明条件的图。