[发明专利]一种双真空泵体抛光液回收装置及方法

说明书

本发明适用于及光学元件加工领域技术领域，提供了一种双真空泵体抛光液回收装置，包括真空腔体、第一真空泵体、第二真空泵体及抛光液存储装置；所述真空腔体包括输入接口、第一真空接口、第二真空接口；抛光液通过所述输入接口进入所述真空腔体，所述第一真空泵体通过所述第一真空接口与所述真空腔体连通，所述第二真空泵体通过所述第二真空接口与所述真空腔体连通，所述抛光液存储装置与所述第一真空泵体相连通。该装置可以实现抛光液无残留的高效回收，提高抛光液的稳定工作状态。

技术领域

本发明涉及光学元件加工领域技术领域，尤其是涉及一种双真空泵体抛光液回收装置及方法。

背景技术

磁流变抛光技术是一种高精度的光学元件精密加工技术，它是利用在抛光轮内部产生的磁场，吸附磁性抛光液，通过抛光轮的自转使磁性抛光液和元件加工表面产生相对运动，通过剪切去除的方式，实现元件表面的加工。

磁性抛光液是循环使用的，它主要由抛光液的供液系统和回收装置进行循环，如图4所示。磁性抛光液具备两个特点，一个是磁性抛光液由含有质量比大于80％的铁粉，所以液体比重大，需要高吸附力的真空泵体进行回收；另一个是要保证磁性抛光液在传输过程中不被污染，避免影响加工效果，所以只能在封闭的管路中传输。

目前，采用的磁性抛光液回收装置主要利用蠕动泵回收抛光液，具体为通过对对蠕动泵中橡胶管的连续挤压产生真空，由于流体只接触泵管，不接触泵体，具有无污染的优点；同时其密封性强，具有良好的自吸能力，可空转，可防止回流。但其真空强度不够，导致残留抛光液吸附在抛光轮上，影响磁流变加工元件的效果。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的目的是提供一种双真空泵体抛光液回收装置，包括真空腔体、第一真空泵体、第二真空泵体及抛光液存储装置；所述真空腔体包括输入接口、第一真空接口、第二真空接口；抛光液通过所述输入接口进入所述真空腔体，所述第一真空泵体通过所述第一真空接口与所述真空腔体连通，所述第二真空泵体通过所述第二真空接口与所述真空腔体连通，所述抛光液存储装置与所述第一真空泵体相连通。

其中，第一真空泵体实现抛光液在封闭管路中传输，同时可提供一定的真空吸力，第二真空泵体可产生高吸力的真空，提供给抛光液的回收力。

采用本发明的上述方案，抛光液由所述第一真空泵体和所述第二真空泵体共同产生的真空吸力带入所述真空腔体，随后，抛光液会被所述第二真空泵体带入所述抛光液储存桶中，如此，即实现了抛光液的封闭传输也实现了高真空度抛光液回收，也避免了由于真空度不够，而导致抛光液残留于抛光轮体上。

进一步地，所述第二真空接口的位置高于所述第一真空接口的位置。上述方案中，由于第一真空泵体的主要作用是实现抛光液在封闭管路中传输，同时可提供一定的真空吸力，而第二真空泵体的作用是为抛光液提供进入真空腔体的回收力，故，使第二真空接口的位置高于所述第一真空接口的位置，可以避免抛光液进入到第二真空泵体中。

进一步地，所述第一真空接口位于所述真空腔体的底壁，所述第二真空接口位于所述真空腔体的侧壁。上述方案中，第一真空接口位于真空腔体的底壁，以便于真空腔体内的抛光液经第一真空泵体流入抛光液储存装置中。

进一步地，所述输入接口和所述第二真空接口分别位于所述真空腔体相对的两侧壁上，所述输入接口靠近所述第一真空接口。上述方案中，元件抛光使用后的抛光液经，在第一真空泵体和第二真空泵体产生的回收力的作用下，经所述输入接口进入所述真空腔体中。所述输入接口靠近所述第一真空接口，可以降低抛光液误进入所述第二真空泵体中的风险。

其中，所述输入接口和所述第二真空接口分别位于所述真空腔体相对的两侧壁上，且所述输入接口的位置不高于所述第二真空接口。

进一步地，所述真空腔体的底壁为凹面，所述第一真空接口位于所述凹面的最低位置处。上述方案中，在抛光液进入所述真空腔体后，抛光液会汇聚于所述真空腔体底壁上的凹面处，并经第一真空接口进入所述抛光液储存装置中。