[发明专利]利用反馈回路提高电源抑制比的带隙基准电路在审
申请号: | 202110563674.2 | 申请日: | 2021-05-24 |
公开(公告)号: | CN113342117A | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
发明(设计)人: | 陈莹梅;彭俊杰;朱恩 | 申请(专利权)人: | 东南大学;网络通信与安全紫金山实验室 |
主分类号: | G05F1/567 | 分类号: | G05F1/567 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 211102 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 反馈 回路 提高 电源 抑制 基准 电路 | ||
1.一种利用反馈回路提高电源抑制比的带隙基准电路,其特征在于,电路具体包括:运算放大器的输出端与地之间串接电阻R4和电阻R5,晶体管Q1的基极与串接的电阻R4和电阻R5中间节点相接,所述中间节点为输出基准电压Vref节点,晶体管Q1的集电极分别与电阻R1的第二端连接以及与运算放大器的反向输入端连接,晶体管Q1的发射极串接电阻R3后接地,晶体管Q2的基极与输出基准电压Vref节点连接,Q2的集电极分别与电阻R0的第二端连接以及与运算放大器的同向输入端连接,Q2的发射极依次串接电阻R2和电阻R3后接地,电阻R0的第一端与VDD连接,电阻R1的第一端与VDD连接。
2.根据权利要求1所述的利用反馈回路提高电源抑制比的带隙基准电路,其特征在于,所述晶体管Q1为NPN双极型晶体管。
3.根据权利要求1所述的利用反馈回路提高电源抑制比的带隙基准电路,其特征在于,所述晶体管Q2为NPN双极型晶体管。
4.根据权利要求1所述的利用反馈回路提高电源抑制比的带隙基准电路,其特征在于,所述电阻R1的电阻值等于电阻R2的电阻值。
5.根据权利要求1所述的利用反馈回路提高电源抑制比的带隙基准电路,其特征在于,改变NPN双极型晶体管Q2的尺寸或者并联数,以及改变电阻R3与R2的比值,能够用于改善基准电压的温度系数和精确度。
6.根据权利要求1所述的利用反馈回路提高电源抑制比的带隙基准电路,其特征在于,增加运算放大器的增益,用于改善输出基准电压的电源抑制比。
7.根据权利要求1所述的利用反馈回路提高电源抑制比的带隙基准电路,其特征在于,所述放大器电路采用BiCMOS工艺实现。
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