[发明专利]一种釉上透明堆雕的制作工艺有效
申请号: | 202110571341.4 | 申请日: | 2021-05-25 |
公开(公告)号: | CN113264757B | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
发明(设计)人: | 许丽枝;黄爱春 | 申请(专利权)人: | 德化县韵丽陶瓷有限公司 |
主分类号: | C04B35/14 | 分类号: | C04B35/14;C04B35/622;C04B35/64;C04B41/89;C03C8/00;C09C1/00 |
代理公司: | 连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙) 32330 | 代理人: | 谷金颖 |
地址: | 362000 福建省泉州*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 透明 制作 工艺 | ||
本发明公开了一种釉上透明堆雕的制作工艺,包括以下步骤:步骤一、制坯泥:将瓷土基料粉碎后放入磨机,加入混合原料总重量30%的水,开机湿磨16小时,经过湿磨的料浆过200目筛,取出静置24小时,然后将泥浆倒入压滤机。有益效果:通过设置底色后在进行上色,最后在进行透明堆雕,能够使得产生层次强烈的堆雕效果,立体感强,层次分明,并且严格控制烧制时的温度,能够使得烧制受热均匀,产品质量均一、成品率高,而且能够对上色层进行防霉、防刮、防变形,而且堆雕细腻光泽、形象逼真。
技术领域
本发明涉及陶瓷堆雕技术领域,具体来说,涉及一种釉上透明堆雕的制作工艺。
背景技术
堆雕亦称凸雕、凸花。是采用各种方法,如堆、贴、刻等,使陶瓷表面产生凸起的纹样。一般分为高浮雕和浅浮雕两种,也有两者相结合的。现有技术中的堆雕工艺多以单层为主,产品的样式较为单一,立体感不强,层次不分明,难以满足消费者的需求,并且在烧制过程中,也极易因为受热不均匀而使坯体收缩不一致裂开,导致废品率较高。
针对相关技术中的问题,目前尚未提出有效的解决方案。
发明内容
本发明的目的在于提供一种釉上透明堆雕的制作工艺,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种釉上透明堆雕的制作工艺包括以下步骤:
步骤一、制坯泥:将瓷土基料粉碎后放入磨机,加入混合原料总重量30%的水,开机湿磨16小时,经过湿磨的料浆过200目筛,取出静置24小时,然后将泥浆倒入压滤机,将泥浆内的水份过滤,再将泥浆送入真空炼泥机进行炼泥,直至泥浆含水量达到23%为止,制得泥坯,取出,进行揉泥,制得泥头,备用;
步骤二、制釉:将釉原料混合放入球磨机内,研磨19小时,向研磨后的原料内加入混合原料总重量30%的水制得外釉料浆,搅拌均匀,用滤网过滤后使釉水内没有杂质后,向料浆内加水,将料浆的含水量调整为60%,备用;
步骤三、制坯:将上述泥头放入盘型滚压模具中,操作设备滚压制得坯体,坯体在一定程度干燥后把坯体从模具中取出,修整,备用;
步骤四、素烧:将上述修整完成的坯体放入窑内,进行焙烧,在1000℃下烧制7小时,并在1000℃时恒温1小时,制得素坯,备用;
步骤五、施釉:取出素坯,借助上釉工具,拇指按住坯体,由上而下快速放入釉水中,迅速拿出,晾干,晾干后把坯体底部的釉水擦干净,备用;
步骤六、锻烧:对上述坏体进行补坯,补坯后的产品放入窑内,装好后开始窑煅烧,窑盖不能盖严,留30公分缝隙,打开电源,全程电压输出为100开始烧制,设置到达550℃烧制120分钟,到达1000℃烧制180分钟,到达1000℃恒温60分钟,到达1230℃烧制240分钟,到达1360℃烧制180分钟,到达1360℃恒温120分钟,然后把窑盖打开20公分,经12小时后,开始逐渐降温到200℃,把窑盖全部打开,降温1小时,降到100℃以下后,开始出窑,煅烧完毕;
步骤七:用市面上的用熔点大于1000℃ 的黑色釉上颜料加入乳香油,进行研磨12小时,研磨细腻,取出部分颜料,然后对烧制的坯体进行轮廓线的勾勒,用超细海绵在需要上色的区域渐变地拍出黑色底色,待干燥后再放入窑内在800℃下进行烧制,550℃烧制120分钟,到800℃烧制150分钟,800℃保温10分钟,电压输出全部100,烧制结束完成第一道上色工序;
步骤八:在完成第一道工序的时候,用橄榄绿釉上彩原料加入乳香油调和,两种颜料进行研磨12小时,研磨细腻,取出部分颜料,用超细海绵在所上色区域进行由重到轻进行上色,待干燥后再放入窑内在780℃下进行烧制,550℃烧制120分钟,到780℃烧制150分钟,780℃保温10分钟,电压输出全部100,烧制结束完成第二道上色工序;
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