[发明专利]勘探系统的均匀参数的确定方法、装置、设备及存储介质

权利要求书

1.一种勘探系统的均匀参数的确定方法，其特征在于，所述方法包括：

获取待勘探的工区包括的多个炮点的位置和多个检波点的位置；

确定所述工区内的多个面元，根据所述多个炮点位置和所述多个检波点的位置，确定每个面元对应的多个炮检对；

对于每个面元，根据所述面元对应的多个炮检对，确定所述面元对应的勘探参数，得到所述多个面元对应的多个勘探参数；

确定所述多个勘探参数所在的多个勘探参数区间，对于每个勘探参数区间，确定所述勘探参数区间内的勘探参数对应的比重参数，所述比重参数用于表示所述勘探参数区间内的勘探参数在多个勘探参数中的比重；

根据所述每个勘探参数区间内的勘探参数对应的比重参数，确定用于对所述工区进行勘探的勘探系统的均匀参数。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对于每个勘探参数区间，确定所述勘探参数区间内的勘探参数对应的比重参数，包括：

对于每个勘探参数区间，确定所述勘探参数区间对应的起始勘探参数和结束勘探参数；

确定第一累计比重参数和第二累计比重参数，所述第一累计比重参数为小于所述起始勘探参数的勘探参数对应的累计比重参数，所述第二累计比重参数为小于所述结束勘探参数的勘探参数对应的累计比重参数；

根据所述第一累计比重参数、第二累计比重参数和所述多个勘探参数区间的数量，确定所述勘探参数区间内的勘探参数对应的比重参数。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述确定第一累计比重参数和第二累计比重参数，包括：

确定小于所述起始勘探参数的勘探参数的第一数量、小于所述结束勘探参数的勘探参数的第二数量和所述多个勘探参数的总数量；

确定所述第一数量与所述总数量的比值为所述第一累计比重参数，确定所述第二数量与所述总数量的比值为所述第二累计比重参数。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述第一累计比重参数、第二累计比重参数和所述多个勘探参数区间的数量，确定所述勘探参数区间内的勘探参数对应的比重参数，包括：

根据所述第一累计比重参数、第二累计比重参数和所述多个勘探参数区间的数量，通过以下公式一，确定所述勘探参数区间内的勘探参数对应的比重参数；

公式一：

其中，S_Pi表示所述比重参数，W_i-1表示所述第一累计比重参数，W_i表示所述第二累计比重参数，n表示所述多个勘探参数区间的数量。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述每个勘探参数区间内的勘探参数对应的比重参数，确定用于对所述工区进行勘探的勘探系统的均匀参数，包括：

根据所述每个勘探参数区间对应的比重参数和所述多个勘探参数区间的数量，通过以下公式二，确定用于对所述工区进行勘探的勘探系统的均匀参数；

公式二：

其中，G表示所述勘探系统的均匀参数，S_Pi表示所述比重参数，n表示所述多个勘探参数区间的数量。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述多个炮点位置和所述多个检波点的位置，确定每个面元对应的多个炮检对，包括：

根据所述多个炮点位置和所述多个检波点的位置，确定任一炮检对的中点位置，所述任一炮检对包括一个炮点和一个检波点；

对于每个面元，获取所述面元的位置，根据所述面元的位置，确定所述中点位置在所述面元内的多个炮检对。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述面元对应的多个炮检对，确定所述面元对应的勘探参数，包括：

确定每个炮检对的方位角，得到多个方位角，对所述多个方位角进行排序，得到所述面元对应的勘探参数；

或者，确定每个炮检对的偏移距，得到多个偏移距，对所述多个偏移距进行排序，得到所述面元对应的勘探参数。