[发明专利]能够对准图案的转印装置、制造图案基板的方法及记录介质在审

专利信息
申请号: 202110584900.5 申请日: 2021-05-27
公开(公告)号: CN113433794A 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 金泰完;权相民;金准基;朴惠贞;郑明教;郑熙锡 申请(专利权)人: 吉佳蓝科技股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 代理人: 李英艳;玉昌峰
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 能够 对准 图案 装置 制造 方法 记录 介质
【说明书】:

发明涉及一种能够对准图案的转印装置、制造图案基板的方法及记录介质。具体地,根据本发明的一实施例可以提供一种能够对准图案的转印装置,包括:第一按压单元,对形成有图案以及定位标记的模具进行支承;第二按压单元,对形成有树脂以及定位键的基板进行支承;以及拍摄部,识别所述定位标记以及所述定位键,所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的任一个朝向另一个移动,所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的一个以上基于由所述拍摄部识别到的所述定位标记以及所述定位键而移动并对准所述模具以及所述基板的水平位置,并且使得对准水平位置的所述模具和所述基板彼此按压,从而彼此加压而将所述图案转印于所述树脂。

技术领域

本发明是涉及一种能够对准图案的转印装置的发明。

背景技术

最近,在显示器工艺以及半导体工艺中,为了在基板(例如,显示面板以及晶圆(Wafer)等)的表面形成图案(例如,结构化的成型图案以及用于蚀刻或者蒸镀的掩模图案等),利用纳米压印(Nano Imprint Lithography)工艺。

纳米压印工艺由于可以替代现有的光刻(Photo Lithography)工艺,是能够经济且有效地制造纳米结构物(nano-structure)的技术。具体地,纳米压印工艺是通过将利用转印装置(Transfer Apparatus)形成有纳米级(nano-scale)图案的模具(Mold)和形成有树脂(Resin)的基板彼此加压而将图案转印于树脂的工艺。如此,在纳米压印工艺中使用的转印装置执行将模具按压(press)于基板之后从基板分离模具的工艺。

在将模具的图案转印于基板的树脂时,需要使得模具和基板位于预先确定的固定位置(right position)并彼此按压。然而,在将模具或者基板设置于转印装置或使得模具和基板彼此相对移动的过程中,由于各种因素,模具和基板可能不位于固定位置。如此,若模具和基板在没有位于固定位置的情况下彼此按压,则图案不会转印于树脂的预先确定的固定位置,可能制造出性能不良的图案基板。

因此,需要能够在将模具的图案转印于基板的树脂之前对准水平位置以使得模具和基板位于固定位置的装置。

发明内容

本发明的实施例是着眼于上述那样的背景而发明的,其目的在于提供能够在将模具的图案转印于基板的树脂之前对准水平位置以使得模具和基板位于预先确定的固定位置(right position)的装置。

另外,其目的在于提供能够将图案转印于树脂的预先确定的固定位置的装置。

根据本发明的一方面,可以提供一种能够对准图案的转印装置,包括:第一按压单元,对形成有图案以及定位标记的模具进行支承;第二按压单元,对形成有树脂以及定位键的基板进行支承;以及拍摄部,识别所述定位标记以及所述定位键,所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的任一个朝向另一个移动,所述第一按压单元以及所述第二按压单元中的一个以上基于由所述拍摄部识别到的所述定位标记以及所述定位键而移动并对准所述模具以及所述基板的水平位置,并且使得对准水平位置的所述模具和所述基板彼此按压,从而彼此加压而将所述图案转印于所述树脂。

另外,可以提供一种能够对准图案的转印装置,还包括:UV照射部,与所述拍摄部沿着水平方向隔开设置,并用于将UV照射于所述树脂;以及驱动部,使所述拍摄部以及所述UV照射部沿着水平方向移动,所述UV照射部构成为能够在用于将UV照射于所述树脂的照射位置和不照射UV的非照射位置之间沿着水平方向移动,所述拍摄部构成为能够在用于识别所述定位标记以及所述定位键的拍摄位置和不识别所述定位标记以及所述定位键的非拍摄位置之间沿着水平方向移动,所述驱动部使所述拍摄部在拍摄位置和非拍摄位置之间移动,并使所述UV照射部在所述照射位置和非照射位置之间移动。

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