[发明专利]一种吸盘组件、曝光装置及光刻系统

权利要求书

1.一种吸盘组件，其特征在于，包括：

吸盘(11)，所述吸盘(11)的基底吸附面具有若干个与所述吸盘(11)同心设置的基底吸附区，每个所述基底吸附区均包括主吸附区(111)，所述主吸附区(111)的外径小于对应尺寸的基底(300)的外径，至少最外侧的所述基底吸附区包括位于所述主吸附区(111)外侧的边缘吸附区(112)；

第一密封件(12)，每个所述主吸附区(111)的边缘均围设有所述第一密封件(12)，所述第一密封件(12)的下端密封嵌设于所述吸盘(11)，所述第一密封件(12)的上端能够弹性凸出所述基底吸附面；

第二密封件(13)，环绕所述边缘吸附区(112)的外边缘设置，所述第二密封件(13)的下端密封嵌设于所述吸盘(11)内，所述第二密封件(13)的上端能够弹性凸出所述基底吸附面，所述第一密封件(12)能够凸出所述基底吸附面的高度大于所述第二密封件(13)能够凸出所述基底吸附面的高度。

2.根据权利要求1所述的吸盘组件，其特征在于，所述第一密封件(12)能够凸出所述基底吸附面的最大高度高度为3mm～5mm，所述第二密封件(13)能够凸出所述基底吸附面的最大高度为0.1mm～0.5mm。

3.根据权利要求1所述的吸盘组件，其特征在于，所述基底吸附面开设有第一密封槽(113)和第二密封槽(114)，所述第一密封槽(113)与所述第一密封件(12)一一对应设置，所述第二密封槽(114)与所述第二密封件(13)一一对应设置，所述第一密封件(12)的下端嵌设于所述第一密封槽(113)内，所述第二密封件(13)的下端嵌设于所述第二密封槽(114)内，所述第一密封槽(113)的槽深和槽宽分别大于所述第二密封槽(114)的槽深和槽宽。

4.根据权利要求3所述的吸盘组件，其特征在于，所述第一密封件(12)包括密封主体(121)和卡接部(122)，所述第一密封槽(113)包括连通的容纳槽部和安装槽部，所述安装槽部位于所述容纳槽部的下方，且所述安装槽部的槽宽从其槽底至槽口逐渐增大，所述卡接部(122)卡设于所述安装槽部中，所述密封主体(121)能够完全容纳于所述容纳槽部中。

5.根据权利要求4所述的吸盘组件，其特征在于，所述密封主体(121)的横截面为长条环形，所述长条环形的长度方向与所述吸盘(11)的厚度方向一致；或

所述密封主体(121)的横截面为折线形，所述折线形的末端折线段沿远离所述卡接部(122)的方向向远离所述吸盘(11)中心的方向倾斜；或

所述密封主体(121)的横截面为三角环形，所述三角环形的一侧边与所述卡接部(122)连接。

6.根据权利要求1所述的吸盘组件，其特征在于，所述主吸附区(111)内同心且间隔设置有多个环形的主吸附凹槽(1111)，所述边缘吸附区(112)内同心且间隔设置有多个环形的边缘吸附凹槽(1121)，所述主吸附凹槽(1111)和所述边缘吸附凹槽(1121)均能够与气源装置连通，相邻两个所述边缘吸附凹槽(1121)之间的间距小于相邻两个所述主吸附凹槽(1111)之间的间距。

7.根据权利要求6所述的吸盘组件，其特征在于，所述主吸附凹槽(1111)和所述边缘吸附凹槽(1121)能够单独连通所述气源装置。

8.根据权利要求1-7任一项所述的吸盘组件，其特征在于，所述吸盘(11)、所述第一密封件(12)及所述第二密封件(13)均由静电耗散材料制成；和/或

所述吸盘(11)内嵌设有静电导电柱(14)，所述静电导电柱(14)的上端与所述基底吸附面平齐，所述静电导电柱(14)的下端接地。

9.一种曝光装置，其特征在于，包括吸盘座(41)和如权利要求1-8任一项所述的吸盘组件，所述吸盘组件设置于所述吸盘座(41)上。