[发明专利]一种电沉积铜箔后处理装置

权利要求书

1.一种电沉积铜箔后处理装置，其特征在于：包括安装台（1），所述安装台（1）上固定设置有电解槽（3），所述电解槽（3）底部设置有阳极板（4），所述电解槽（3）内轴接有阴极辊（5），所述安装台（1）在阴极辊（5）的上方固定连接有安装架（2），所述安装架（2）上设置有铜箔清洗机构，所述铜箔清洗机构的一侧设置有烘干机构，所述烘干机构的一侧设置有收卷机构；所述烘干机构包括烘干箱体（21），所述烘干箱体（21）沿铜箔传送方向的两个端面上开设有进箔口和出箔口，所述铜箔贯穿所述烘干箱体（21）并将其分为上下两层，所述烘干箱体（21）同侧的上下两端面分别开设有进风口和出风口；所述烘干箱体（21）内部平行设置有两组滑动板（22），所述烘干箱体（21）的顶部固定设置有双向丝杠（23），所述双向丝杠（23）的两侧分别螺纹连接有螺母（24），两组所述螺母（24）分别与两组滑动板（22）固定连接；所述滑动板（22）相对的侧面上均开设有限位槽（25），所述铜箔的两侧与限位槽（25）相适配；靠近所述进风口和出风口的滑动板（22）上连接有与进风口和出风口相对应的进风管（26）和出风管（27），远离所述进风口和出风口的滑动板（22）上设置有连通烘干箱体（21）为上下两层的通风道（28）；

所述清洗机构包括第一挤液辊（6），所述第一挤液辊（6）与所述阴极辊（5）上的电解铜箔相接触；所述第一挤液辊（6）的上方依次设置有第一真空吸附辊（7）、第一毛刷喷水辊（8）、第二真空吸附辊（9）和第二挤液辊（10），所述第一真空吸附辊（7）、第二真空吸附辊（9）和第二挤液辊（10）均与所述阴极辊（5）上的电解铜箔相接触；所述清洗机构还包括翻面辊（11），所述翻面辊（11）设置在背离所述第二挤液辊（10）的一侧，所述翻面辊（11）的上方设置有第二毛刷喷水辊（12），所述第二挤液辊（10）的上方设置有第三真空吸附辊（13）；所述第一真空吸附辊（7）、第二真空吸附辊（9）和第三真空吸附辊（13）均包括第一辊体（31），所述第一辊体（31）的内部设置有真空腔（32），所述第一辊体（31）的侧壁上开设有若干个真空孔（33），所述安装架（2）上固定设置有三组真空罩（14），三组所述真空罩（14）分别套设在第一真空吸附辊（7）、第二真空吸附辊（9）和第三真空吸附辊（13）的外侧，所述真空罩（14）靠近阴极辊（5）上的电解铜箔的一侧设置有豁口。

2.根据权利要求1所述的一种电沉积铜箔后处理装置，其特征在于：所述第一毛刷喷水辊（8）和第二毛刷喷水辊（12）均包括第二辊体（41），所述第二辊体（41）的内部开设有储液腔（42），所述第二辊体（41）的侧壁上开设有若干喷液口（43），所述喷液口（43）和储液腔（42）相连通；所述第二辊体（41）的侧壁上固定设置有刷毛（44）。

3.根据权利要求1所述的一种电沉积铜箔后处理装置，其特征在于：所述收卷机构包括收卷辊（15），所述收卷辊（15）与所述安装台（1）转动连接。

4.根据权利要求1所述的一种电沉积铜箔后处理装置，其特征在于：所述烘干箱体（21）的底部固定设置有干燥板（29），所述干燥板（29）的顶面上设置有滑轨，所述滑动板（22）上固定设置有与滑轨相适配的滑块；所述干燥板（29）与烘干箱体（21）底板之间设置有干燥剂，所述干燥板（29）上开设有干燥孔。