[发明专利]一种电沉积铜箔后处理装置有效
申请号: | 202110612960.3 | 申请日: | 2021-06-02 |
公开(公告)号: | CN113355704B | 公开(公告)日: | 2022-03-25 |
发明(设计)人: | 古明煌;谢基贤;罗志宏;李永明;郭志航;谢伟成 | 申请(专利权)人: | 广东嘉元科技股份有限公司 |
主分类号: | C25D1/04 | 分类号: | C25D1/04;C25D21/18;B08B1/00;B08B1/02;B08B3/02;F26B5/16;F26B13/00;F26B21/00 |
代理公司: | 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 | 代理人: | 张雪 |
地址: | 514759 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 沉积 铜箔 处理 装置 | ||
本发明公开一种电沉积铜箔后处理装置,包括安装台,安装台上固定设置有电解槽,电解槽底部设置有阳极板,电解槽内轴接有阴极辊,安装台在阴极辊的上方固定连接有安装架,安装架上设置有铜箔清洗机构,铜箔清洗机构的一侧设置有烘干机构,烘干机构的一侧设置有收卷机构。本发明通过挤液辊使附着在铜箔表面的硫酸铜溶液重新流入阳极槽,实现了硫酸铜溶液的回收再利用;并且通过多组毛刷喷水辊和真空吸附辊对铜箔上下表面进行清洗,并通过烘干箱体对铜箔上下表面进行烘干,彻底地清除了附着在铜箔表面的硫酸铜溶液。
技术领域
本发明涉及铜箔生产设备技术领域,特别是涉及一种电沉积铜箔后处理装置。
背景技术
电解铜箔是覆铜板及印制电路板、锂离子电池制造的重要的材料。在当今电子信息产业高速发展中,电解铜箔被称为电子产品信号与电力传输、沟通的“神经网络”。
电解铜箔沉积在阴极辊表面的电解铜箔在随着阴极辊旋转出阳极槽时,其表面会附着有电解区域中的硫酸铜溶液。表面附着有硫酸铜溶液的铜箔必须在2-3天内进行后续工序的表面处理,否则会在其表面发生严重的氧化,从而使电解铜箔表面出现发黑的现象,这会严重影响耐浸焊指标和抗剥离强度,而且后续的表面处理工序难以去除其表面的氧化层。因此,亟需一种可以对电解铜箔及时处理的电沉积铜箔装置。
发明内容
本发明的目的是提供一种电沉积铜箔后处理装置,以解决上述现有技术存在的问题。
为实现上述目的,本发明提供了如下方案:本发明提供一种电沉积铜箔后处理装置,包括安装台,安装台上固定设置有电解槽,电解槽底部设置有阳极板,电解槽内轴接有阴极辊,安装台在阴极辊的上方固定连接有安装架,安装架上设置有铜箔清洗机构,铜箔清洗机构的一侧设置有烘干机构,烘干机构的一侧设置有收卷机构。
优选的,清洗机构包括第一挤液辊,第一挤液辊与阴极辊上的电解铜箔相接触;第一挤液辊的上方依次设置有第一真空吸附辊、第一毛刷喷水辊、第二真空吸附辊和第二挤液辊,第一真空吸附辊、第二真空吸附辊和第二挤液辊均与阴极辊上的电解铜箔相接触。
优选的,清洗机构还包括翻面辊,翻面辊设置在背离第二挤液辊的一侧,翻面辊的上方设置有第二毛刷喷水辊,第二挤液辊的上方设置有第三真空吸附辊。
优选的,第一真空吸附辊、第二真空吸附辊和第三真空吸附辊均包括第一辊体,第一辊体的内部设置有真空腔,第一辊体的侧壁上开设有若干个真空孔,安装架上固定设置有三组真空罩,三组真空罩分别套设在第一真空吸附辊、第二真空吸附辊和第三真空吸附辊的外侧,真空罩靠近阴极辊上的电解铜箔的一侧设置有豁口。
优选的,第一毛刷喷水辊和第二毛刷喷水辊均包括第二辊体,第二辊体的内部开设有储液腔,第二辊体的侧壁上开设有若干喷液口,喷液口和储液腔相连通;第二辊体的侧壁上固定设置有刷毛。
优选的,收卷装置包括收卷辊,收卷辊与安装台转动连接。
优选的,烘干机构包括烘干箱体,烘干箱体沿铜箔传送方向的两个端面上开设有进箔口和出箔口,铜箔贯穿烘干箱体并将其分为上下两层,烘干箱体同侧的上下两端面分别开设有进风口和出风口。
优选的,烘干箱体内部平行设置有两组滑动板,烘干箱体的顶部固定设置有双向丝杠,双向丝杠的两侧分别螺纹连接有螺母,两组螺母分别与两组滑动板固定连接;滑动板相对的侧面上均开设有限位槽,铜箔的两侧与限位槽相适配;靠近进风口和出风口的滑动板上连接有与进风口和出风口相对应的进风管和出风管,远离进风口和出风口的滑动板上设置有连通烘干箱体为上下两层的通风道。
优选的,烘干箱体的底部固定设置有干燥板,干燥板的顶面上设置有滑轨,滑动板上固定社会自由与滑轨相适配的滑块;干燥板与烘干箱体底板之间设置有干燥剂,干燥板上开设有干燥孔。
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