[发明专利]一种纳米ITO粉末的制备方法在审
申请号: | 202110624459.9 | 申请日: | 2021-06-04 |
公开(公告)号: | CN113321238A | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 宋鹏;何洋;黄太红;李才巨 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
主分类号: | C01G19/00 | 分类号: | C01G19/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 昆明同聚专利代理有限公司 53214 | 代理人: | 王远同 |
地址: | 650000 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 ito 粉末 制备 方法 | ||
1.一种纳米ITO粉末的制备方法,其特征在于,具体包括以下步骤:
(1)将锡块和铟块进行清洗、烘干后备用;
(2)将步骤(1)所得锡块和铟块块分别置于熔炉中进行熔融;
(3)纳米级ITO粉末的制备:设置等离子喷涂实验参数,待等离子设备调试稳定后点燃喷枪,待喷涂功率稳定后分别打开In和Sn熔炉的高温调速阀,通过调控Sn、In液滴的流速来实现高通量制备不同成份的纳米ITO粉末,然后使两种液滴在搅拌设备中均匀混合,通过高温节流阀使混合液滴均匀的流入离子束火焰中来制备纳米级ITO粉末,通过不同的收集箱收集不同成份的纳米级ITO粉末。
2.根据权利要求1所述纳米ITO粉末的制备方法,其特征在于:步骤(1)的具体过程为:将锡块和铟块装入超声波清洗仪中用丙酮清洗,然后将锡块和铟块放入特定干燥箱中进行烘干,干燥箱温度为40℃。
3.根据权利要求1所述纳米ITO粉末的制备方法,其特征在于:步骤(2)中,所述熔炉的真空度为5×10-1pa。
4.根据权利要求1所述纳米ITO粉末的制备方法,其特征在于:步骤(3)中等离子喷涂实验参数为:喷涂电压 65V~75V,喷涂电流 550A~650A,N2 流量为 2000~2400L/h,Ar 流量2000~2200L/h。
5.根据权利要求1所述纳米ITO粉末的制备方法,其特征在于:在混合液滴流入离子束火焰的过程中逆时针改变离子束火焰的角度0°~60°。
6.根据权利要求1所述纳米ITO粉末的制备方法,其特征在于:混合液滴的流速为30mL/min~90mL/ min,In液滴的液流速度为10mL/min ~100mL/min,Sn液滴的液流速度为10mL/min ~100mL/min。
7.根据权利要求1~6所述纳米ITO粉末的制备方法,其特征在于:步骤(3)中所述喷枪置于一个可控气氛箱中,可控式气氛箱安装在滑动轨道上。
8.根据权利要求7所述纳米ITO粉末的制备方法,其特征在于:步骤(3)中不同的收集箱通过倾斜式粉末通道固定于滑动轨道的一侧,当制备不同成份的纳米级ITO粉末时,可控式气氛箱通过滑动轨道滑到相应的倾斜式粉末通道处,实现不同的收集箱收集不同成份的纳米级ITO粉末。
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