[发明专利]用于薄状料件的吸附机构

权利要求书

1.一种用于薄状料件的吸附机构，其特征在于，包括第一吸附单元、能够对所述第一吸附单元提供负压的气路单元，

所述第一吸附单元包括第一本体，所述第一本体上开设有多个吸附孔，每个所述吸附孔的第一端与所述气路单元连通、第二端朝向薄状料件设置以吸附所述薄状料件；

所述第一本体朝向所述薄状料件的端面向内凹陷形成导流槽，其中至少一个所述吸附孔对应设置有所述导流槽，所述导流槽的第一端延伸至所述第一本体的外侧壁处、第二端延伸至所述第一本体的内侧壁处，所述吸附孔在所述气路单元的作用下一直处于负压状态，由于所述导流槽的第一端与外部直接连通，在负压的吸力下，所述导流槽内的气流一直朝向所述吸附孔内流动，以使得所述导流槽内朝向所述吸附孔流动的气流流速大于所述薄状料件背离所述第一本体一侧的气流流速。

2.如权利要求1所述的用于薄状料件的吸附机构，其特征在于，所述第一本体朝向所述薄状料件的端面上凸起形成有间隔设置的两个定位块，每个所述定位块上均对应开设有所述吸附孔。

3.如权利要求1所述的用于薄状料件的吸附机构，其特征在于，还包括与所述气路单元连通的第二吸附单元，其中所述第一吸附单元具有第一工位和第二工位，所述第一吸附单元能够在吸附方向上相对所述第二吸附单元移动，以使得所述第一吸附单元能够从所述第一工位处越过所述第二吸附单元运动至第二工位处。

4.如权利要求3所述的用于薄状料件的吸附机构，其特征在于，所述第二吸附单元包括第二本体，均布设置在所述第二本体上的多个吸嘴。

5.如权利要求1所述的用于薄状料件的吸附机构，其特征在于，所述第一吸附单元还包括气缸，所述气缸的输出端与所述第一本体连接并推动所述第一本体与所述薄状料件抵接。

6.如权利要求5所述的用于薄状料件的吸附机构，其特征在于，包括能够控制所述气缸伸出或缩回的电磁阀组件。

7.如权利要求1所述的用于薄状料件的吸附机构，其特征在于，所述气路单元的进口处设置有能够使其具有负压环境的真空一体阀组件。