[发明专利]喜树碱类高分子衍生物的药物制剂在审

专利信息
申请号: 202110647842.6 申请日: 2015-10-16
公开(公告)号: CN113304278A 公开(公告)日: 2021-08-27
发明(设计)人: 藤田真也;青木进 申请(专利权)人: 日本化药株式会社
主分类号: A61K47/64 分类号: A61K47/64;A61K47/60;A61K31/4745;A61P35/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 庞东成;褚瑶杨
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 喜树碱 高分子 衍生物 药物制剂
【权利要求书】:

1.一种药物制剂,其为含有聚乙二醇链段和聚谷氨酸链段连结而成的通式(1)所表示的嵌段共聚物的药物制剂,该聚谷氨酸链段包含结合有喜树碱衍生物的谷氨酸单元,

[化1]

式中,R1表示氢原子或者具有或不具有取代基的碳原子数(C1~C6)烷基,A为碳原子数(C1~C6)亚烷基,R2表示选自由氢原子、具有或不具有取代基的碳原子数(C1~C6)酰基和具有或不具有取代基的碳原子数(C1~C6)烷氧基羰基组成的组中的1种,R3表示羟基和/或-N(R6)CONH(R7),所述R6和所述R7可以相同也可以不同,表示被叔氨基取代或无取代的碳原子数(C1~C8)烷基,R4表示选自由氢原子、具有或不具有取代基的碳原子数(C1~C6)烷基和具有或不具有取代基的甲硅烷基组成的组中的1种,R5表示氢原子或者具有或不具有取代基的碳原子数(C1~C6)烷基,t表示90~340的整数,d和e分别为整数,d+e表示8~40的整数,d相对于d+e的比例为20%~70%,e的比例为30%~80%,所述聚谷氨酸链段为结合有喜树碱衍生物的谷氨酸单元和结合有R3基的谷氨酸单元各自独立地随机排列而成的聚谷氨酸链段结构,

所述药物制剂包含pH调节剂,

在所述药物制剂的水溶液中,两个以上的所述嵌段共聚物形成缔合物,

在将所述药物制剂制成以所述喜树碱衍生物含量浓度计为1mg/mL的水溶液时,该水溶液的pH为3.0~5.0,

将所述药物制剂在遮光下于40℃保存1周后,所述药物制剂的所述缔合物的总分子量变化率为50%以下,

所述药物制剂为冷冻干燥制剂。

2.一种药物制剂,其为含有聚乙二醇链段和聚谷氨酸链段连结而成的通式(1)所表示的嵌段共聚物的药物制剂,该聚谷氨酸链段包含结合有喜树碱衍生物的谷氨酸单元,

[化2]

式中,R1表示氢原子或者具有或不具有取代基的碳原子数(C1~C6)烷基,A为碳原子数(C1~C6)亚烷基,R2表示选自由氢原子、具有或不具有取代基的碳原子数(C1~C6)酰基和具有或不具有取代基的碳原子数(C1~C6)烷氧基羰基组成的组中的1种,R3表示羟基和/或-N(R6)CONH(R7),所述R6和所述R7可以相同也可以不同,表示被叔氨基取代或无取代的碳原子数(C1~C8)烷基,R4表示选自由氢原子、具有或不具有取代基的碳原子数(C1~C6)烷基和具有或不具有取代基的甲硅烷基组成的组中的1种,R5表示氢原子或者具有或不具有取代基的碳原子数(C1~C6)烷基,t表示90~340的整数,d和e分别为整数,d+e表示8~40的整数,d相对于d+e的比例为20%~70%,e的比例为30%~80%,所述聚谷氨酸链段为结合有喜树碱衍生物的谷氨酸单元和结合有R3基的谷氨酸单元各自独立地随机排列而成的聚谷氨酸链段结构,

在所述药物制剂的水溶液中,两个以上的所述嵌段共聚物形成缔合物,

所述药物制剂包含pH调节剂,

在将所述药物制剂制成以所述喜树碱衍生物含量浓度计为1mg/mL的水溶液时,该水溶液的pH为3.0~5.0,

将所述药物制剂在遮光下于40℃保存1周后,所述药物制剂的所述缔合物的利用动态光散射方式测定的粒径的变化率为0.25倍以上且5倍以下,

所述药物制剂为冷冻干燥制剂。

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