[发明专利]一种烧结钕铁硼磁体的表面处理方法及烧结钕铁硼磁体在审
| 申请号： | 202110653149.X | 申请日： | 2021-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN113555208A | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | 付松;张雪峰;赵利忠;刘孝莲;石振;严密 | 申请（专利权）人： | 杭州电子科技大学 |
| 主分类号： | H01F41/02 | 分类号： | H01F41/02;H01F1/057 |
| 代理公司： | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人： | 李博 |
| 地址： | 310018 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 烧结 钕铁硼 磁体 表面 处理 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种烧结钕铁硼磁体的表面处理方法，其特征在于，在钕铁硼磁体的表面设置水膜，然后将钕铁硼磁体高温加热处理后冷却，在烧结钕铁硼磁体表面形成钝化薄膜。
2.根据权利要求1所述的烧结钕铁硼磁体的表面处理方法，其特征在于，所述高温加热处理的温度为400～500℃，处理时间为1～30min。
3.根据权利要求2所述的烧结钕铁硼磁体的表面处理方法，其特征在于，处理时间5～30min。
4.根据权利要求1所述的烧结钕铁硼磁体的表面处理方法，其特征在于，所述水膜通过在钕铁硼磁体表面喷洒水流成膜或倾倒水流成膜或将钕铁硼磁体放置在水蒸汽过饱和的环境中静置成露水膜得到。
5.根据权利要求4所述的烧结钕铁硼磁体的表面处理方法，其特征在于，所述钕铁硼磁体在表面由水形成膜后，倾斜钕铁硼磁体使过多的水流走后高温加热处理。
6.根据权利要求1所述的烧结钕铁硼磁体的表面处理方法，其特征在于，高温加热处理的环境气氛中，氧气体积占比≤25%。
7.根据权利要1或6所述的烧结钕铁硼磁体的表面处理方法，其特征在于，高温加热处理的环境气氛为空气。
8.根据权利要求1所述的烧结钕铁硼磁体的表面处理方法，其特征在于，钕铁硼磁体在处理前经喷砂或砂纸打磨进行表面清洁。
9.一种烧结钕铁硼磁体，其特征在于，烧结钕铁硼磁体的表面存在利用如权利要求1至8任一的表面处理方法得到的钝化薄膜。
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