[发明专利]清洗系统及其使用方法

权利要求书

1.一种清洗系统(300)，所述清洗系统(300)包括：

清洗室(302)，所述清洗室(302)包括：

第一子室(310)，所述第一子室(310)被配置为保持第一清洗剂；

第二子室(308)，所述第二子室(308)与所述第一子室(310)相邻；

第一分隔件(314)，所述第一分隔件(314)位于所述第一子室(310)与所述第二子室(308)之间，所述第一分隔件(314)中形成有第一孔(342)；

第三子室(306)，所述第三子室(306)与所述第二子室(308)相邻，并且被配置为接收所述第一清洗剂；以及

第二分隔件(312)，所述第二分隔件(312)位于所述第二子室(308)与所述第三子室(306)之间，所述第二分隔件(312)中具有形成的第二孔(344)，所述第一孔(342)和所述第二孔(314)被配置为形成通过所述第二子室(308)的流体路径；

真空系统(304)，所述真空系统(304)联接到所述第三子室(306)，所述真空系统(304)被配置为在所述第三子室(306)中生成压力，该压力小于所述第一子室(310)的压力，以引起从所述第一子室(310)到所述第三子室(306)的所述第一清洗剂的加压流；以及

过滤系统(334)，所述过滤系统(334)联接到所述第一子室(310)和所述第三子室(306)，所述过滤系统(334)被配置为去除和过滤来自所述第三子室(306)的所述第一清洗剂，并且将该第一清洗剂返回到所述第一子室(310)。

2.根据权利要求1所述的清洗系统(300)，所述清洗系统(300)还包括：

第一联接机构(322)，所述第一联接机构(322)经由所述第一孔(342)可移除地联接到所述第一分隔件(314)；以及

第二联接机构(318)，所述第二联接机构(318)经由所述第二孔(344)可移除地联接到所述第二分隔件(312)。

3.根据权利要求2所述的清洗系统(300)，所述清洗系统(300)还包括：

部件(316)，所述部件(316)位于所述第二子室(308)中，所述部件(316)具有：

所述部件(316)的第一端(324)，所述第一端(324)被可移除地联接到所述第一联接机构(322)；

所述部件(316)的第二端(320)，所述第二端(320)被可移除地联接到所述第二联接机构(318)；

外表面(352)；以及

内表面(360)，所述内表面(360)限定了从所述部件(316)的所述第一端(324)延伸到所述部件(316)的所述第二端(320)的至少一个内部通道(350)。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的清洗系统(300)，所述清洗系统(300)还包括：第一容器(340)，所述第一容器(340)联接到所述第一子室(310)，所述第一容器(340)中具有所述第一清洗剂并被配置为将所述第一清洗剂输送到所述第一子室(310)中。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的清洗系统(300)，所述清洗系统(300)还包括：第二容器(338)，所述第二容器(338)联接到所述第二子室(308)，所述第二容器(338)具有第二清洗剂并被配置为将所述第二清洗剂输送到所述第二子室(308)中。