[发明专利]掩膜组件及其制作方法

权利要求书

1.一种掩膜组件，其特征在于，包括：

掩膜框架；以及

掩膜网面，所述掩膜网面通过多个连接点连接于所述掩膜框架；

其中，所述掩膜网面包括：

网面本体，具有位于网面本体的中心位置的蒸镀区域及围绕所述蒸镀区域设置的连接区域，所述网面本体通过所述连接区域与所述掩膜框架连接；

多个阻挡部，位于所述连接区域内，多个所述阻挡部彼此间隔地布设于所述网面本体的一侧，且所述阻挡部具有用于容纳所述连接点的阻挡槽。

2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述阻挡部在所述网面本体上的正投影为围绕所述连接点的封闭图形。

3.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述阻挡部包括凸设于所述网面本体一侧的至少一挡墙；

位于最内侧的所述挡墙界定出所述阻挡槽的边界。

4.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，所述阻挡部包括多个挡墙。

5.根据权利要求4所述的掩膜组件，其特征在于，多个所述挡墙围绕所述连接点彼此间隔地同轴设置。

6.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，所述挡墙在所述网面本体上的正投影的内轮廓与外轮廓均平滑过渡。

7.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，所述挡墙垂直于其周向延伸方向的截面为拱形。

8.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，所述挡墙凸出于所述网面本体的高度为0.11毫米至0.115毫米。

9.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述连接区域包括非减薄区和围绕所述非减薄区设置的减薄区；

在所述掩膜框架和所述掩膜网片的层叠方向上，所述减薄区的厚度小于所述非减薄区的厚度，所述阻挡部位于所述减薄区。

10.一种掩膜组件的制作方法，其特征在于，包括：

提供一掩膜网面和一掩膜框架；所述掩膜网面包括网面本体和多个阻挡部，所述阻挡部具有阻挡槽；

张拉所述掩膜网面于所述掩膜框架上；

连接所述掩膜网面与所述掩膜框架；其中，连接形成的连接点位于所述阻挡槽内。