[发明专利]提高外延片均匀度的外延托盘及其制备方法

权利要求书

1.一种提高外延片均匀度的外延托盘，其特征在于，所述外延托盘为圆柱体，所述外延托盘的一端的端面具有多个同心的凹槽圈，每个所述凹槽圈都包括多个沿所述外延托盘的周向均匀分布的圆形凹槽，每个所述圆形凹槽的侧壁均具有多个衬底支撑凸起，所述多个衬底支撑凸起沿所述圆形凹槽的周向均匀分布，

所述圆形凹槽的底面均具有调整凸起与调整槽，所述调整凸起的高度小于所述衬底支撑凸起的高度，以所述圆形凹槽所在的所述凹槽圈的圆心连线为切割圆，所述圆形凹槽包括被所述切割圆划分的靠近所述外延托盘的圆心的第一部分与远离所述外延托盘的圆心的第二部分，所述调整凸起的重心及所述调整槽的重心均分布在所述第二部分，

以所述外延托盘的经过所述圆形凹槽的圆心的直径为参考直径，所述调整凸起与所述调整槽分布在所述参考直径的两侧，且所述调整凸起与所述调整槽均与所述圆形凹槽的侧壁相接。

2.根据权利要求1所述的外延托盘，其特征在于，所述调整凸起与所述参考直径之间的所述圆形凹槽的侧壁对应的圆心角为20～50度。

3.根据权利要求2所述的外延托盘，其特征在于，所述调整槽与所述参考直径之间的所述圆形凹槽的侧壁对应的圆心角为90～150度。

4.根据权利要求1～3任一项所述的外延托盘，其特征在于，与所述调整凸起相接的所述圆形凹槽的侧壁对应的圆心角为60～90°，与所述调整槽相接的所述圆形凹槽的侧壁对应的圆心角为30～90°。

5.根据权利要求1～3任一项所述的外延托盘，其特征在于，由所述调整凸起指向所述圆形凹槽的圆心的方向上，所述调整凸起的高度减小，由所述调整槽指向所述圆形凹槽的圆心的方向上，所述调整槽的深度减小。

6.根据权利要求1～3任一项所述的外延托盘，其特征在于，所述调整凸起的高度与所述调整槽的深度之比为1:2～4:1。

7.根据权利要求1～3任一项所述的外延托盘，其特征在于，所述调整凸起的高度为20～60μm，所述调整槽的深度为15～40μm。

8.根据权利要求1～3任一项所述的外延托盘，其特征在于，所述调整凸起的表面的致密度高于所述圆形凹槽的底面的致密度。

9.根据权利要求1～3任一项所述的外延托盘，其特征在于，所述调整凸起的表面的致密度与所述圆形凹槽的底面的致密度之比为99:5～99:1。

10.一种提高外延片均匀度的外延托盘的制备方法，其特征在于，所述制备方法用于制备如权利要求1～9任一项所述的外延托盘。