[发明专利]一种光学玻璃的镀膜工艺

权利要求书

1.一种光学玻璃的镀膜工艺，其特征在于，包括：

步骤S1，传送单元将待镀膜的光学玻璃传送至清洗单元处，清洗单元对待镀膜的光学玻璃进行清洗，所述传送单元将清洗后的光学玻璃传送至吹干单元，所述吹干单元对清洗后的光学玻璃进行吹干；

步骤S2，所述传送单元将吹干后的待镀膜光学玻璃传输至真空镀膜单元，所述真空镀膜单元根据待镀膜的光学玻璃的类型确定真空镀膜单元的初始工作参数，其中，初始工作参数包括真空镀膜单元的真空度、溅射电流和溅射时间；

步骤S3，所述真空镀膜单元接收设置在真空镀膜单元内的真空计的实时真空度并控制真空泵以使真空腔内的真空度达到预设真空度后，对待镀膜的光学玻璃按照预设的溅射电流和溅射时间进行真空溅射镀膜；

步骤S4，所述真空镀膜单元进行充气操作后，镀膜后的光学玻璃经传送单元传送至质检单元，经质检单元检测合格后传输至合格单元，检验不合格的传输至不合格单元，所述质检包括对光学玻璃镀膜后的膜层厚度检测、膜层平整度检测和膜层透光率检测；

步骤S5，所述真空镀膜单元接收质检单元传输的已镀膜玻璃的膜层厚度、膜层平整度和膜层透光率计算出镀膜参考值，

若计算出的镀膜参考值是第一块光学玻璃的镀膜参考值时，则直接将第一块光学玻璃的镀膜参考值与预设镀膜参考值进行比较，确定下一块待镀膜的光学玻璃的镀膜参数；

步骤S6，若计算出的镀膜参考值不是第一块光学玻璃的镀膜参考值时，则所述真空镀膜单元根据上一块光学玻璃的镀膜参考值在预设镀膜参考值的不同范围，将当前光学玻璃的镀膜参考值直接与预设镀膜参考值进行比较，或，先确定当前光学玻璃的镀膜参考值与上一块光学玻璃的镀膜参考值的差值范围，再将当前光学玻璃的镀膜参考值与预设镀膜参考值进行比较，所述真空镀膜单元根据比较结果对下一块光学玻璃的工作参数进行确定；

在所述步骤S4中，所述质检单元对镀膜后的光学玻璃进行质检，并将检测到的膜层厚度、平整度和透光率的数据信息传输至真空镀膜单元，所述真空镀膜单元接收镀膜后的光线玻璃的膜层厚度、平整度和透光率信息并计算出镀膜参考值x，

x=0.3×H/H0+0.4×P/P0+0.3×G/G0

其中，H表示光学玻璃镀膜后的实际镀膜厚度，H0表示光线玻璃镀膜后的预设镀膜厚度，P表示光学玻璃镀膜后的实际平整度，P0表示光学玻璃镀膜后的预设平整度，G表示光学玻璃镀膜后的实际透光率，G0表示光学玻璃镀膜后的预设透光率；

在所述步骤S5中，所述真空镀膜单元根据第一块镀膜后的光学玻璃的膜层厚度、平整度和透光率根据镀膜参考值的计算公式计算出第一块光学玻璃的镀膜参考值x1，x1= H1/H0+P1/P0+G1/G0，其中，H1表示第一块光学玻璃镀膜后的实际镀膜厚度，P1表示第一块光学玻璃镀膜后的实际平整度，G1表示第一块光学玻璃镀膜后的实际透光率；

所述真空镀膜单元将第一块光学玻璃的镀膜参考值x1与预设镀膜参考值进行比较，根据比较结果对第二块光学玻璃的工作参数进行确定，设定镀膜第一参考值xc1，设定镀膜第二参考值xc2，设定xc2大于xc1，设定第一块光学玻璃的镀膜工作参数为Bi，

若x1≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第二块光学玻璃的工作参数为B（i+1），并调整Z（i+1）为需要达到的真空度，选取D（i+1）为镀膜时的溅射电流，选取T（i+1）为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x1≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第二块光学玻璃的工作参数为第一块光学玻璃的工作参数；

若x1＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第二块光学玻璃的工作参数为B（i-1），并调整Z（i-1）为需要达到的真空度，选取D（i-1）为镀膜时的溅射电流，选取T（i-1）为镀膜时的溅射时间；

所述真空镀膜单元根据调整后的工作参数对第二块光学玻璃进行镀膜，并根据第二块光学玻璃镀膜后的膜层厚度、平整度和透光率计算出第二块光学玻璃的镀膜参考值x2，x2=H2/H0+P2/P0+G2/G0，其中，H2表示第二块光学玻璃镀膜后的实际镀膜厚度，P2表示第二块光学玻璃镀膜后的实际平整度，G2表示第二块光学玻璃镀膜后的实际透光率；

所述真空镀膜单元根据第一块光学玻璃的镀膜参考值x1在预设镀膜参考值的不同范围，将第二块光学玻璃的镀膜参考值x2直接与预设镀膜参考值进行比较，或，先确定第二块光学玻璃的镀膜参考值x2与第一块光学玻璃的镀膜参考值x1的差值范围，再将第二块光学玻璃的镀膜参考值x2与预设镀膜参考值进行比较，所述真空镀膜单元根据比较结果对第三块光学玻璃的工作参数进行确定；

（1）若x1≤xc1时，所述真空镀膜单元根据x2与x1差值的不同范围结合x2与预设镀膜参考值的比较结果对第三块光学玻璃的镀膜工作参数进行确定，设定镀膜差值参考值xcc，设定xcc小于xc2-xc1，设定第二块光学玻璃的镀膜工作参数为Bk，则，

①若0＜x2-x1＜xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B（k+2），并调整Z（k+2）为需要达到的真空度，选取D（k+2）为镀膜时的溅射电流，选取T（k+2）为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

②若x2-x1≥xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B（k+1），并调整Z（k+1）为需要达到的真空度，选取D（k+1）为镀膜时的溅射电流，选取T（k+1）为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

③若x2-x1＜0或x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元判定发生故障；

（2）若xc1＜x1≤xc2时，所述真空镀膜单元将第二块光学玻璃的镀膜参考值x2直接与预设镀膜参考值进行比较，并根据比较结果对第三块光学玻璃的镀膜工作参数进行确定，

若x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B（k+1），并调整Z（k+1）为需要达到的真空度，选取D（k+1）为镀膜时的溅射电流，选取T（k+1）为镀膜时的溅射时间；

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

若x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B（k-1），并调整Z（k-1）为需要达到的真空度，选取D（k-1）为镀膜时的溅射电流，选取T（k-1）为镀膜时的溅射时间；

（3）若x1＞xc2时，所述真空镀膜单元根据x2与x1差值的不同范围结合x2与预设镀膜参考值的比较结果对第三块光学玻璃的镀膜工作参数进行确定，设定镀膜差值参考值xcc，则，

①若0＜x1-x2＜xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

若x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B（k-2），并调整Z（k-2）为需要达到的真空度，选取D（k-2）为镀膜时的溅射电流，选取T（k-2）为镀膜时的溅射时间；

②若x1-x2≥xcc时，所述真空镀膜单元将x2与预设镀膜参考值进行比较确定第三块光学玻璃的镀膜工作参数，

若xc1＜x2≤xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为第二块光学玻璃的工作参数；

若x2＞xc2时，则所述真空镀膜单元确定第三块光学玻璃的工作参数为B（k-1），并调整Z（k-1）为需要达到的真空度，选取D（k-1）为镀膜时的溅射电流，选取T（k-1）为镀膜时的溅射时间；

③若x1-x2＜0或x2≤xc1时，则所述真空镀膜单元判定发生故障。