[发明专利]芯片烘烤固化方法及芯片装片方法在审
申请号: | 202110673807.1 | 申请日: | 2021-06-17 |
公开(公告)号: | CN113539895A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 程仕红;栗伟斌;孔晓琳;赖辰辰;甘荣武;张方思亮;李安平 | 申请(专利权)人: | 深圳米飞泰克科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/56 |
代理公司: | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人: | 赵智博 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区宝龙*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 芯片 烘烤 固化 方法 | ||
1.一种芯片烘烤固化方法,其特征在于,利用具有充氮阀及排风机的烘箱来烘烤芯片并固化芯片上的胶水,所述芯片烘烤固化方法包括:
在加热挥发段,加热所述烘箱,使所述烘箱内温度升至第一温度,并使所述烘箱在第一时长内保持所述第一温度,其中,在所述加热挥发段,开启所述排风机及所述充氮阀;
在加热固化段,关闭所述排风机,加热所述烘箱,使所述烘箱内温度升至第二温度,并使所述烘箱在第二时长内保持所述第二温度,其中,第二温度为预设的胶水固化温度,第二时长为所述胶水在所述第二温度下固化所需的时间;
在冷却降温段,冷却所述烘箱。
2.根据权利要求1所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,所述第一温度的范围为95℃-105℃。
3.根据权利要求1或2所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,加热所述烘箱,使所述烘箱内温度升至第一温度所需的时间为10min-15min。
4.根据权利要求1或2所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,所述第一时长为35min-45min。
5.根据权利要求1所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,所述充氮阀的充氮流量为60L/MIN-80L/MIN。
6.根据权利要求1所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,所述加热固化段包括第一恒温区间、升温区间和第二恒温区间;在所述第一恒温区间,关闭所述排风机并使所述烘箱保持所述第一温度;在所述升温区间,加热所述烘箱,使所述烘箱内温度升至所述第二温度,所述升温区间的时长为30min-40min;在所述第二恒温区间,使所述烘箱保持所述第二温度。
7.根据权利要求1所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,所述冷却所述烘箱包括:冷却所述烘箱,使所述烘箱内温度降低至第三温度;开启所述排风机,冷却所述烘箱,使所述烘箱内温度降低至第四温度。
8.根据权利要求7所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,所述第三温度的范围为80℃-120℃。
9.根据权利要求7所述的芯片烘烤固化方法,其特征在于,所述第四温度的范围为80℃-85℃。
10.一种芯片装片方法,其特征在于,所述芯片装片方法包括:
利用胶水将芯片贴附于框架上;
采用如权利要求1-9中任一项所述的芯片烘烤固化方法烘烤所述芯片,使所述胶水固化。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳米飞泰克科技有限公司,未经深圳米飞泰克科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110673807.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造