[发明专利]一种隐型提花面料、编织方法及鞋面

说明书

本发明涉及纺织面料技术领域，具体指一种隐型提花面料、编织方法及鞋面，该提花面料包括面层和底层，所述面层包括集圈提花区和非集圈提花区；其中所述集圈提花区为所述底层的第二纱线在所述面层集圈并与所述面层的第一纱线套嵌成圈；所述非集圈提花区为所述面层的前线圈与后线圈套嵌；所述底层为针织提花层；用于编织集圈提花区的第二纱线与第一纱线的纱线颜色不同，所述鞋面的至少一部分为如上所述的隐型提花面料。本发明通过一体编织的方式，得到具有隐型提花的提花面料，使得提花图案可若隐若现，面料风格低调，给出了一种新型的提花结构和提花方式，且工艺环保。

技术领域

本发明涉及纺织面料技术领域，具体指一种隐型提花面料、编织方法及鞋面。

背景技术

提花面料，一般分为小提花和大提花面料，小提花面料是指织针经过有限的移圈形成的较为规律的图案，大提花面料是指织针经电脑控制系统可以在任意位置进行提花形成任意形状的提花图案，两种方式形成的提花面料都赋予了织物美观的特点。但目前的提花多为面层的提花，即提花图案显示于面层，当图案的颜色较为鲜明时，形成的图案也较为鲜明。然而，随着市场消费者对于面料图案的要求的变化，若隐若现的提花结构也逐渐被消费者喜爱，这类面料既具有提花面料的花型，面料的层次感更丰富，同时由于花型被部分隐藏，使得面料图案更加低调，这类面料在服装、鞋材等领域被逐渐应用。而目前，为了实现花型若隐若现的隐型效果，往往采用复合的方式，即在提花面料的表层复合一层较为轻薄或者具有网眼结构的面料来遮挡部分花型以形成花型隐型效果，但该种方式在复合过程中会使用到粘合剂等化学物质，不仅不利于环保，且成本增加，粘合剂的使用也会影响面料的手感。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提出一种隐型提花面料、编织方法及鞋面，通过一体编织的方式得到了具有隐型提花结构的面料。

作为本发明的第一发明，提出了一种隐型提花面料，其包括面层和底层，所述面层包括集圈提花区和非集圈提花区；其中所述集圈提花区为所述底层的第二纱线在所述面层集圈并与所述面层的第一纱线套嵌成圈；所述非集圈提花区为所述面层的前线圈与后线圈套嵌；所述底层为针织提花层；用于编织集圈提花区的第二纱线与第一纱线的纱线颜色不同。

进一步的，所述提花面料还包括连接层，所述连接层位于所述面层与底层之间，并用于连接所述面层和底层。

进一步的，所述连接层的编织纱线细度小于所述第一纱线和第二纱线的细度。

进一步的，所述面层为平纹结构。

进一步的，所述面层为单面罗纹结构。

进一步的，所述底层为电脑提花层。

进一步的，所述底层为移圈提花层。

进一步的，所述面层为移圈提花、透孔、半透孔中的任一组织。

进一步的，所述面层的编织纱线为单色纱线，所述底层的编织纱线包括两种及以上颜色的纱线，且所述底层的编织纱线的颜色与面层的编织纱线的颜色均不同。

作为本发明的第二方面，给出了一种隐型提花面料的编织方法，包括以下步骤：

S1编织面层：用于编织面层的纱线前后线圈套嵌形成面层的非集圈提花区；

S2编织底层：用于编织底层的纱线前后线圈提花套嵌形成底层；

S3编织集圈提花区：用于编织该集圈提花区的底层的第二纱线在面层上集圈并与编织该集圈提花区的所述面层的第一纱线套嵌成圈；

所述用于编织集圈提花区的第二纱线与第一纱线的颜色不同。

作为本发明的第三方面，给出了一种鞋面，所述鞋面的至少一部分为如上所述的隐型提花面料。

与现有技术相比，本发明具有的有益效果为：