[发明专利]用于二次电池的硅碳复合负极材料及制备方法在审
申请号: | 202110681431.9 | 申请日: | 2021-06-18 |
公开(公告)号: | CN113422017A | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 张子栋;周海平;吴孟强;徐自强;冯婷婷;张庶 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01M4/36 | 分类号: | H01M4/36;H01M4/38;H01M4/62;H01M4/04;H01M4/1395;H01M10/052;H01M10/058;C23C14/02;C23C14/16;C23C14/35;C23C16/26;C23C16/50;C23C16/56;C23C28/00 |
代理公司: | 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 | 代理人: | 敖欢 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 二次 电池 复合 负极 材料 制备 方法 | ||
1.一种用于二次电池的硅碳复合负极材料,其特征在于:所述的硅碳复合负极材料为氮、氟掺杂的非晶形石墨和P掺杂硅的复合结构,所述的复合结构从下至上依次为泡沫镍、P型掺杂硅、非晶形石墨、P型掺杂硅、氮氟同时掺杂的非晶形石墨。
2.根据权利要求1所述的用于二次电池的硅碳复合负极材料,其特征在于通过如下制备方法得到:
(1)取清洗后的泡沫镍于真空设备中,使用Ar和H2等离子体刻蚀泡沫镍表面;
(2)以磁控溅射方法溅射P掺杂的硅至泡沫镍上;
(3)接着以等离子体增强化学气相沉积法PECVD制备非晶形石墨,将石墨沉积在P掺杂的硅上;
(4)步骤(2)和(3)交替进行,得到P型掺杂硅-非晶形石墨-P型掺杂硅-非晶形石墨的多层结构;
(5)再将氮源和氟源气体以电感耦合等离子体ICP方法掺杂入最上层的非晶形石墨中,即得硅碳复合负极材料。
3.一种用于二次电池的硅碳复合负极材料的制备方法,其特征在于包括如下步骤:
(1)取清洗后的泡沫镍于真空设备中,使用Ar和H2等离子体刻蚀泡沫镍表面;
(2)以磁控溅射方法溅射P掺杂的硅至泡沫镍上;
(3)接着以等离子体增强化学气相沉积法PECVD制备非晶形石墨,将石墨沉积在P掺杂的硅上;
(4)步骤(2)和(3)交替进行,得到P型掺杂硅-非晶形石墨-P型掺杂硅-非晶形石墨的多层结构;
(5)再将氮源和氟源气体以电感耦合等离子体ICP方法掺杂入最上层的非晶形石墨中,即得硅碳复合负极材料;所述的复合结构从下至上依次为泡沫镍、P型掺杂硅、非晶形石墨、P型掺杂硅、氮氟同时掺杂的非晶形石墨。
4.根据权利要求3所述的用于二次电池的硅碳复合负极材料的制备方法,其特征在于:步骤(1)使用厚度0.8mm,孔洞0.2mm,孔隙率93%-98%,PPI为110的泡沫镍。
5.根据权利要求3所述的用于二次电池的硅碳复合负极材料的制备方法,其特征在于:磁控溅射的方式为射频式磁控溅射,电源输出功率为300W,溅射的靶材距离样品台10-15cm,通入的氩气流量为30-50sccm,腔体内的真空度为2.0-15Pa。
6.根据权利要求3所述的用于二次电池的硅碳复合负极材料的制备方法,其特征在于:磁控溅射的靶材为P掺杂的硅靶。
7.根据权利要求3所述的用于二次电池的硅碳复合负极材料的制备方法,其特征在于:步骤(1)清洗泡沫镍具体为:首先丙酮超声清洗15min,其次用去离子水超声清洗15min,接着用稀盐酸超声清洗15min,再用去离子水清洗3次,每次15min,然后用乙醇超声清洗15min,最后在真空烘箱里面450C烘干2h。
8.根据权利要求3所述的用于二次电池的硅碳复合负极材料的制备方法,其特征在于:步骤(3)制备非晶形石墨的碳源为甲烷,通入的甲烷和氢气流量分别为10-20sccm和10-20sccm;并且/或者步骤(5)中氟源和氮源分别为四氟化碳气体和氮气,通入的四氟化碳气体和氮气的流量分别为10-20sccm和10-20sccm。
9.根据权利要求3所述的用于二次电池的硅碳复合负极材料的制备方法,其特征在于:所述的二次电池为锂离子电池。
10.根据权利要求3所述的用于二次电池的硅碳复合负极材料的制备方法,其特征在于:步骤(2)磁控溅射时通入的氩气流量范围为30-50sccm;磁控溅射的时长为1h。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110681431.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。