[发明专利]不含六价铬的蚀刻锰回收系统

说明书

本发明提供了用于回收锰蚀刻剂溶液的方法，其中收集并蒸发用于在蚀刻非导电基板之后冲洗或中和基板的处理溶液，以提供浓缩的处理溶液，该溶液被进料回到锰蚀刻剂溶液或酸冲洗液中。

本申请是申请日为2018年7月10日、发明名称为“不含六价铬的蚀刻锰回收系统”、国际申请号为PCT/IB2018/055067并且中国国家申请号为201880044537.4的申请的分案申请。

相关申请的交叉引用

本专利申请要求2017年7月10日提交的美国临时申请号62/530,473的优先权，该申请据此全文以引用方式并入。

技术领域

本公开涉及不含六价铬的蚀刻锰回收系统。

背景技术

本部分提供与本公开相关的背景信息，其不一定是现有技术。

金属化非导电基板的许多常规工艺包括蚀刻基板，然后活化，然后进行无电镀金属化。无电镀金属化使得非导电基板具有导电性，从而允许后续的传统电镀工艺。在许多此类工艺中，通过将非导电基板浸渍在铬酸-硫酸混合物中来实现基板的蚀刻。

许多此类蚀刻工艺主要利用六价铬。然而，在过去几年中，六价铬蚀刻剂的使用由于六价铬造成的保健风险而下降。然而其它方法避免了在蚀刻剂溶液中完全使用铬并迁移到其它溶液，包括基于锰的蚀刻剂溶液。Mn蚀刻剂溶液具有其它独特的挑战。持续需要进一步降低与Mn蚀刻剂溶液相关的成本。

发明内容

本部分提供了对本公开的总体概述，并且未全面公开其全部范围或其所有特征。

本发明的技术提供了用于回收在锰蚀刻剂工艺中使用的锰的方法。该方法包括在用蚀刻剂溶液蚀刻非导电基板之后用中和剂溶液中和基板。中和剂溶液包含由酸和氧化剂构成的溶液。去除使用的中和剂溶液或含锰的冲洗液(本文中称为处理溶液)的至少一部分，并且将其送至蒸发处理槽中，在蒸发处理槽中蒸发处理溶液以从剩余的所用处理溶液中去除任何氧化剂和浓缩物。将浓缩的处理溶液添加到蚀刻剂或酸冲洗溶液中。在其它实施方案中，浓缩的处理溶液被浓缩至大于或等于约2g/L Mn。在其它实施方案中，蒸发器组件包括大气蒸发器或真空蒸发器。在其它实施方案中，蒸发器组件包括蒸发处理槽。在其它实施方案中，加热蒸发处理槽并用剧烈空气处理来处理。在各种实施方案中，蚀刻剂溶液包含锰离子源。

本发明的技术还提供了回收用于在锰蚀刻中使用的锰蚀刻剂溶液的方法。该方法包括在用蚀刻剂溶液蚀刻非导电基板之后用中和剂溶液中和基板。中和剂溶液包含酸和氧化剂中的至少一种。将处理溶液的至少一部分浓缩至蚀刻剂溶液的浓度。将浓缩的处理溶液进料到蚀刻剂处理中。在其它实施方案中，浓缩的处理溶液被浓缩至大于或等于约2g/LMn。在其它实施方案中，中和剂溶液包含酸和氧化剂。在甚至另外的实施方案中，将处理溶液的至少一部分转移到蒸发器处理槽中以浓缩处理溶液。蒸发器组件还可包括大气蒸发器或真空蒸发器。在其它实施方案中，蒸发器组件还可包括蒸发处理槽。在其它此类实施方案中，可使用剧烈空气处理对蒸发处理槽进行加热和处理。在其它实施方案中，蚀刻剂溶液包含锰离子源。

本发明的技术还提供了用于回收锰蚀刻剂溶液的蒸发系统。蒸发系统包括蒸发器组件，并且蒸发器组件被配置成从处理溶液中蒸发水以形成浓缩的处理溶液。蒸发器组件可转印地连接到被配置成用于在无电镀金属化处理中使用的处理槽。处理槽容纳被配置成转移到蒸发槽中的处理溶液。在其它实施方案中，蒸发器组件还包括蒸发处理槽。在其它此类实施方案中，蒸发处理槽还包括加热器和空气搅拌器。在其它实施方案中，当浓缩的处理溶液被浓缩至大于或等于约2g/L Mn时，蒸发器组件排放浓缩的处理溶液。在甚至另外的实施方案中，蒸发器组件在蚀刻剂处理中将浓缩的处理溶液排放到槽中。蚀刻剂处理可包括锰离子源。在各种实施方案中，处理溶液包含酸。

根据本文提供的描述，其它适用领域将变得显而易见。本发明内容中的描述和具体示例仅旨在用于说明目的并且不旨在限制本公开的范围。

附图说明