[发明专利]制造透过型的光学元件的制造方法、曝光装置、物品制造方法以及透过型的光学元件

说明书

本发明提供制造透过型的光学元件的制造方法、曝光装置、物品制造方法以及透过型的光学元件。该制造方法的特征在于：具有在上述光学元件的表面形成防反射膜的第1工序和将在上述第1工序形成的上述防反射膜在上述防反射膜的厚度方向除去的第2工序，在上述第2工序中，将上述防反射膜在上述厚度方向除去，以便即使在上述防反射膜被除去的区域也残留有上述防反射膜的至少一部分。

技术领域

本发明涉及制造透过型的光学元件的制造方法、曝光装置、物品制造方法以及透过型的光学元件。

背景技术

在用于制造半导体器件等物品的光刻工序中使用曝光装置，该曝光装置具有对原版进行照明的照明光学系统和将由照明光学系统照明了的原版的图形向基板投影的投影光学系统。通过将原版的图形投影到基板上，该图形被转印至配置(涂敷)于基板的表面的抗蚀剂(感光剂)上。在曝光装置中，若原版的照明不均匀，则存在着图形向基板上的抗蚀剂的转印变差的可能性。因此，在照明光学系统中，为了以均匀的照度照明原版，使用光棒型光学积分器或包含有二维地配置的多个波阵面分割元素的光学积分器。

另一方面，在照明光学系统中，有时由于光学系统的污损或偏心、防反射膜的斑点等，在被照明面上的照度分布上被确认有不均匀性。于是，日本特开2006-210554号公报公开了以下技术：在与被照明面在光学上为共轭关系的位置上，配置有在石英基板上设置了圆点图形(遮光物)的滤光器，通过使圆点的密度(透过率分布)变化而使被照明面上的照度分布变均匀。

发明内容

发明所要解决的课题

但是，在日本特开2006-210554号公报所公开的技术中，难以使被照明面上的照度分布以充分的精度变均匀。例如，在需要由滤光器使透过率稍微变化的场合，由于圆点的数量变少，所以，因圆点的尺寸的误差导致产生的透过率的误差会变大，无法高精度地修正被照明面上的照度分布。

本发明提供有利于使被照明面中的照度分布变均匀的有关透过型的光学元件的技术。

用于解决课题的方案

为了达成上述目的，作为本发明的一个方面的制造方法，是一种制造(光)透过型的光学元件的制造方法，其特征在于，上述制造方法具有：第1工序，该第1工序在上述光学元件的表面形成防反射膜；以及第2工序，该第2工序将在上述第1工序形成的上述防反射膜在上述防反射膜的厚度方向除去，在上述第2工序中，将上述防反射膜在上述厚度方向除去，以便即使在上述防反射膜被除去的区域也残留有上述防反射膜的至少一部分。

作为本发明的另一方面的曝光装置，是一种曝光装置，该曝光装置经由原版对基板进行曝光，其特征在于，上述曝光装置具有：照明光学系统，该照明光学系统对上述原版进行照明；以及投影光学系统，该投影光学系统将由上述照明光学系统照明的上述原版的图形向上述基板投影，上述照明光学系统包括表面形成有防反射膜的透过型的光学元件，上述防反射膜遍及上述表面内地存在，且在上述表面内具有膜厚分布，以便透过上述光学元件的光形成将由来自拆除了上述光学元件的状态的上述照明光学系统的光在配置上述原版的面上形成的照度分布抵消的照度分布。

作为本发明的再一方面的物品制造方法，是一种物品制造方法，其特征在于，上述物品制造方法具有：使用上述的曝光装置对基板进行曝光的工序；对经过曝光的上述基板进行显影的工序；以及从经过显影的上述基板制造物品的工序。

作为本发明的再一方面的光学元件，是一种(光)透过型的光学元件，其特征在于，上述光学元件具有形成于上述光学元件的表面的防反射膜，上述防反射膜遍及上述表面内地存在，且在上述表面内具有与透过上述光学元件的光所应形成的照度分布对应的膜厚分布。

以下，本发明的其他目的或者其他方面将通过参照附图来说明的实施方式而变得清楚。

发明的效果

根据本发明，例如能提供有利于使被照明面中的照度分布变均匀的有关透过型的光学元件的技术。