[发明专利]液晶透镜、其制作方法及显示装置在审

专利信息
申请号: 202110692131.0 申请日: 2021-06-22
公开(公告)号: CN113325618A 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 赵承潭 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;G02F1/1335;G02F1/1337;G02B30/28
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 张筱宁;王存霞
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶 透镜 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种液晶透镜,其特征在于,包括:

第一介质透镜,一面上设置有第一凹槽,所述第一凹槽的表面上设置有第一取向层;

封装偏光结构,位于所述第一介质透镜设置有所述第一凹槽的一侧,所述封装偏光结构靠近所述第一介质透镜的一侧设置有第二取向层;

液晶分子,位于所述第一凹槽和所述封装偏光结构限定的空间内;

所述第一取向层和所述第二取向层由活性取向单体光聚合而形成,所述封装偏光结构至少在所述第一取向层和所述第二取向层光聚合的过程中对偏振光进行折射,以使折射后的所述偏振光均匀分布在所述第一凹槽的表面。

2.根据权利要求1所述的液晶透镜,其特征在于,所述封装偏光结构为梯度折射封装层,且在第一凹槽的中心点指向边缘的方向上,梯度折射封装层的折射率依次增大;

所述梯度折射封装层在所述第一取向层和所述第二取向层光聚合的过程中对偏振光进行折射。

3.根据权利要求2所述的液晶透镜,其特征在于,所述梯度折射封装层的厚度为0.1um~5um,折射率为1.2~2.0,材料为聚甲基丙烯酸甲酯或聚合物液晶。

4.根据权利要求1所述的液晶透镜,其特征在于,所述封装偏光结构包括常规封装层和第二介质透镜,所述第二介质透镜设置在所述常规封装层远离第一介质透镜的一面上;

所述第二介质透镜在所述第一取向层和所述第二取向层光聚合的过程中对偏振光进行折射。

5.根据权利要求4所述的液晶透镜,其特征在于,所述第一介质透镜和所述第二介质透镜的材料和形状相同。

6.根据权利要求1所述的液晶透镜,其特征在于,所述封装偏光结构包括常规封装层和第二介质透镜,所述第二介质透镜在所述第一取向层和第二取向层光聚合完成后移除;

所述第二介质透镜在所述第一取向层和所述第二取向层光聚合的过程中对偏振光进行折射。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的液晶透镜,其特征在于,

所述第一取向层厚度范围为5nm~100nm;

所述第二取向层为光聚合第二取向层或复合第二取向层,所述光聚合第二取向层的厚度范围为5nm~100nm,所述复合第二取向层的厚度范围为100nm~200nm。

8.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-7中任一项所述的液晶透镜。

9.一种液晶透镜的制作方法,其特征在于,包括:

获取第一介质透镜,所述第一介质透镜的一面设置有第一凹槽;

将自取向液晶注入所述第一凹槽内并将封装偏光结构与所述第一介质透镜对盒,所述自取向液晶包括液晶分子和活性取向单体;

利用偏振光由所述封装偏光结构远离所述第一介质透镜的一侧进行照射以使所述活性取向单体发生光聚合,从而在所述第一凹槽的表面形成第一取向层,在所述封装偏光结构靠近所述第一介质透镜的一面上形成第二取向层;

其中,所述封装偏光结构至少在所述第一取向层和所述第二取向层光聚合的过程中对所述偏振光进行折射,以使折射后的所述偏振光均匀分布在所述第一凹槽的表面。

10.根据权利要求9所述的液晶透镜的制作方法,其特征在于,所述封装偏光结构为折射率可调的封装层,所述偏振光经过折射率可调的封装层的折射后均匀入射至所述第一凹槽面上;

将所述封装偏光结构与所述第一介质透镜对盒,包括:

将折射率可调的封装层与所述第一介质透镜对盒。

11.根据权利要求9所述的液晶透镜的制作方法,其特征在于,所述封装偏光结构包括常规封装层和第二介质透镜,所述偏振光经所述第二介质透镜折射后均匀入射至所述第一凹槽面上;

将所述封装偏光结构与所述第一介质透镜对盒,包括:

将所述常规封装层与所述第一介质透镜对盒,再将所述第二介质透镜连接设置在所述常规封装层远离所述第一介质透镜的一面上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110692131.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top