[发明专利]真空镀膜机

权利要求书

1.一种真空镀膜机，其特征在于，包括：

腔体；

支撑柱，设置在所述腔体内；

载盘，包括连接部件和载板，所述载板通过所述连接部件与所述支撑柱连接，以使所述载板可沿所述支撑柱的轴向转动，所述载板呈环状并具有第一镂空部，所述载板沿其自身周向分布有多个基板承载区；

晶振系统，包括至少一个第一晶振，所述第一晶振位于所述第一镂空部并靠近所述基板承载区设置。

2.如权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述连接部件包括：

连接板，连接于所述支撑柱，所述连接板与所述载板沿支撑柱的轴向间隔设置；

侧板，所述侧板的一端与所述连接板连接，所述侧板的另一端与所述载板连接。

3.如权利要求2所述的真空镀膜机，其特征在于，

所述连接板上开设有多个第一通孔，各所述基板承载区位于所述第一通孔沿所述支撑柱的轴向在所述载板上的正投影之内；

所述侧板的一端与所述连接板的外边缘连接，所述侧板的另一端与所述载板的外边缘连接。

4.如权利要求2所述的真空镀膜机，其特征在于，

所述侧板的一端与所述连接板的外边缘连接，所述侧板的另一端与所述载板朝向所述第一镂空部的内边缘连接。

5.如权利要求2所述的真空镀膜机，其特征在于，

所述侧板的一端与所述连接板的外边缘连接，所述侧板的另一端与所述载板的外边缘连接，所述侧板在所述基板承载区对应的位置处开设第二通孔。

6.如权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，

所述晶振系统包括至少一个第二晶振，所述第二晶振设置在所述载板上。

7.如权利要求6所述的真空镀膜机，其特征在于，

所述第二晶振位于相邻的两个所述基板承载区之间；

或者，所述第二晶振位于所述基板承载区背离所述第一镂空部的一侧。

8.如权利要求6所述的真空镀膜机，其特征在于，

所述第一晶振和/或所述第二晶振通过线束连接机构与所述腔体内的线束电性连接，所述线束连接机构包括：

固定连接件，固定于所述支撑柱并与所述支撑柱同轴设置，所述固定连接件包括相互绝缘设置的第一正极导线和第一负极导线；

旋转连接件，与所述第一晶振和/或所述第二晶振电性连接，所述旋转连接件包括相互绝缘设置的第二正极导线和第二负极导线，

其中，所述旋转连接件相对所述固定连接件绕所述支撑柱的轴向可转动设置，且所述第一正极导线与所述第二正极导线连接，所述第一负极导线与所述第二负极导线连接。

9.如权利要求8所述的真空镀膜机，其特征在于，

所述固定连接件的外表面呈球面，所述固定连接件包括沿所述支撑柱的轴向分布的第一半球面和第二半球面，所述第一半球面为所述第一负极导线，所述第二半球面为所述第一正极导线；

或者，所述固定连接件的外表面呈圆柱形，所述固定连接件包括沿所述支撑柱的轴向分布的第一圆弧面和第二圆弧面，所述第一圆弧面为所述第一负极导线，所述第二圆弧面为所述第一正极导线。

10.如权利要求9所述的真空镀膜机，其特征在于，

所述第二负极导线与所述第二正极导线沿所述支撑柱的轴向分布；

或者，所述第二正极导线套设于所述第二负极导线之内，且至少部分所述第二负极导线的内壁面露出并与所述第一负极导线连接，所述第二正极导线在所述第二负极导线内与所述第一正极导线连接；

或者，所述第二负极导线套设于所述第二正极导线之内，且至少部分所述第二正极导线的内壁面露出并与所述第一正极导线连接，所述第二负极导线在所述第二正极导线内与所述第一负极导线连接。