[发明专利]一种适用于Micro OLED的旋涂方法及Micro OLED结构

权利要求书

1.一种适用于Micro OLED的旋涂方法，其特征在于：所述的适用于Micro OLED的旋涂方法的步骤是：

S1.在平整的过渡基板(4)上制备亲水材料层(3)，制备亲水材料层(3)时的方式选择旋涂或刮涂或喷墨打印，亲水材料层(3)的材料选用环氧乙烷、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯中的一种；

S2.将制备好的过渡基板(4)和亲水材料层(3)与表面凹凸的基板(1)对位，其中掩模版Ⅰ(2)置于亲水材料层(3)与基板(1)之间，通过激光转印方式将亲水材料层(2)转移到基板(1)的凹陷位置(5)；

S3.在平整的过渡基板(4)上制备疏水材料层(7)，制备疏水材料层(7)时的方式选择旋涂、刮涂、喷墨打印，疏水材料层(7)材料选用氟化聚乙烯，聚烯烃，聚碳酸酯中的一种；

S4.将制备好的过渡基板(4)和亲水材料层(7)与表面凹凸的基板(1)对位，其中掩模版Ⅱ(6)置于亲水材料层(3)与基板(1)之间，通过激光转印方式将亲水材料层(2)转移到基板(1)的凸起位置(8)。

2.根据权利要求1所述的适用于Micro OLED的旋涂方法，其特征在于：所述的适用于Micro OLED的旋涂方法适用于有机胶为亲水性时。

3.根据权利要求2所述的适用于Micro OLED的旋涂方法，其特征在于：所述的亲水材料层(3)的材料优选聚甲基丙烯酸甲酯。

4.根据权利要求3所述的适用于Micro OLED的旋涂方法，其特征在于：所述的亲水材料层(3)的厚度可选10nm-1000nm，其中优选为20nm。

5.根据权利要求2所述的适用于Micro OLED的旋涂方法，其特征在于：所述的疏水材料层(7)的厚度可选10nm-1000nm，其中优选为10nm。

6.根据权利要求5所述的适用于Micro OLED的旋涂方法，其特征在于：所述的疏水材料层(7)优选氟化聚乙烯。

7.根据权利要求1所述的适用于Micro OLED的旋涂方法，其特征在于：当有机胶为疏水性质时，将S1、S 3步骤对调，即：

在平整的过渡基板(4)上制备疏水材料层(7)，制备疏水材料层(7)时的方式选择旋涂、刮涂、喷墨打印，疏水材料层(7)材料选用氟化聚乙烯，聚烯烃，聚碳酸酯中的一种；将制备好的过渡基板(4)和亲水材料层(7)与表面凹凸的基板(1)对位，其中掩模版Ⅱ(6)置于亲水材料层(3)与基板(1)之间，通过激光转印方式将亲水材料层(2)转移到基板(1)的凹陷位置(5)；

然后在在平整的过渡基板(4)上制备亲水材料层(3)，制备亲水材料层(3)时的方式选择旋涂或刮涂或喷墨打印，亲水材料层(3)的材料选用环氧乙烷、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯中的一种；将制备好的过渡基板(4)和亲水材料层(3)与表面凹凸的基板(1)对位，其中掩模版Ⅰ(2)置于亲水材料层(3)与基板(1)之间，通过激光转印方式将亲水材料层(2)转移到基板(1)的凸起位置(8)。

8.一种Micro OLED结构，其特征在于：所述的Micro OLED包括基板(1)、亲水材料层(3)、过渡基板(4)、凹陷位置(5)、疏水材料层(7)、凸起位置(8)。

9.根据权利要求8所述的Micro OLED结构，其特征在于：所述的有机胶为疏水性质时，亲水材料层(3)位于基板(1)上的凹陷位置(5)内，疏水材料层(7)位于基板(1)上的凸起位置(8)内。

10.根据权利要求8所述的Micro OLED结构，其特征在于：所述的有机胶为疏水性质时，疏水材料层(7)位于基板(1)上的凹陷位置(5)内，亲水材料层(3)位于基板(1)上的凸起位置(8)内。