[发明专利]一种滚筒清洗工艺粉体清洗剂在审

专利信息
申请号: 202110711079.9 申请日: 2021-06-25
公开(公告)号: CN113512473A 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 曾鑫江;郭光明 申请(专利权)人: 深圳市恒纬祥科技有限公司
主分类号: C11D1/94 分类号: C11D1/94;C11D3/20;C11D3/08;C11D3/04;C11D3/10;C11D3/37;C11D3/60
代理公司: 深圳市神州联合知识产权代理事务所(普通合伙) 44324 代理人: 王志强
地址: 518000 广东省深圳市南山区招商街道沿山社区工*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 滚筒 清洗 工艺 粉体清 洗剂
【权利要求书】:

1.一种滚筒清洗工艺粉体清洗剂,其特征在于,该清洗剂包括如下质量百分比的组分:

分散剂20%-47%,

螯合剂1%-28%,

无机碱42%-69%,

除灰剂5%-32%,

表面活性剂5%-32%。

2.如权利要求1所述的一种滚筒清洗工艺粉体清洗剂,其特征在于,所述的表面活性剂为AEO-7、T-80、异构13醇聚氧乙烯醚、LAS、异辛醇聚氧乙烯醚磷酸酯、烷基糖苷、椰子油酸二乙醇酰胺、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸酯钠盐、椰油酰胺丙基羟磺基甜菜碱、椰子烷基季胺乙氧基化物中的一种或者几种混合物。

3.如权利要求1所述的一种滚筒清洗工艺粉体清洗剂,其特征在于,所述分散剂为柠檬酸钠、葡萄糖酸钠、五水偏硅酸钠、层状硅酸钠中的一种或几种的混合物。

4.如权利要求1所述的一种滚筒清洗工艺粉体清洗剂,其特征在于,所述螯合剂为EDTA-4Na、DTPA-5Na、无机碱为碳酸钠、碳酸钾、氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或几种的混合物。

5.如权利要求1所述的一种滚筒清洗工艺粉体清洗剂,其特征在于,所述除灰剂为HEDP-2Na、HEDP-4Na、聚丙烯酸钠、氟化钾、CETSA、NNO、MF中的一种或几种的混合物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市恒纬祥科技有限公司,未经深圳市恒纬祥科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110711079.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top