[发明专利]复合镀膜玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种复合镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

获取玻璃基底，至少在所述玻璃基底的一侧表面采用真空磁控溅射方法制备PVD镀层；

在所述PVD镀层背离所述玻璃基底的表面采用化学气相沉积方法制备CVD镀层，得到复合镀膜玻璃。

2.如权利要求1所述的复合镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述PVD镀层的折射率为1.45～2.30；

和/或，所述PVD镀层的材料包括SiO₂、氧化钛、氧化铌中的至少一种；

和/或，所述PVD镀层的厚度为50～100nm。

3.如权利要求1或2所述的复合镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述CVD镀层的折射率为1.26～1.33；

和/或，所述CVD镀层的材料包括SiO₂、氟化镁中的至少一种；

和/或，所述CVD镀层的厚度为80～130nm。

4.如权利要求3所述的复合镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述真空磁控溅射方法的条件包括：在真空度不高于10^-3Pa，工作气体为惰性气体，反应气体为氧气，靶材纯度不低于5N，功率为10～30KW，电压为200～400V的条件下，在所述玻璃基底表面磁控溅射沉积所述PVD镀层。

5.如权利要求1或4所述的复合镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述化学气相沉积方法的条件包括：在温度为20～40℃，湿度为40～70％的条件下，在所述PVD镀膜表面沉积镀层溶胶，固化处理，形成所述CVD镀层。

6.如权利要求5所述的复合镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述固化处理的步骤包括：在所述PVD镀膜表面沉积所述镀层溶胶后，在温度为150～200℃的条件下干燥去除溶胶中的溶剂，再在温度为680～720℃的条件下进行高温烧结，形成所述CVD镀层，得到所述复合镀膜玻璃。

7.一种复合镀膜玻璃，其特征在于，所述复合镀膜玻璃包括玻璃基底，至少贴合设置在所述玻璃地基层一侧表面的PVD镀层，以及贴合设置在所述PVD镀层背离所述玻璃基底表面的CVD镀层。

8.如权利要求7所述的复合镀膜玻璃，其特征在于，所述PVD镀层的折射率为1.45～2.30；

和/或，所述PVD镀层的材料包括SiO₂、氧化钛、氧化铌中的至少一种；

和/或，所述PVD镀层的厚度为50～100nm。

9.如权利要求7或8所述的复合镀膜玻璃，其特征在于，所述CVD镀层的折射率为1.26～1.33；

和/或，所述CVD镀层的材料包括SiO₂、氟化镁中的至少一种；

和/或，所述CVD镀层的厚度为80～130nm。

10.如权利要求9所述的复合镀膜玻璃，其特征在于，所述复合镀膜玻璃的b值为-1～-4，透过率为93.8～94.3％，铅笔硬度不低于3H。