[发明专利]阵列基板制造方法、阵列基板以及显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板制造方法，其特征在于，所述阵列基板制造方法包括以下步骤：

在薄膜晶体管基板上涂布第一保护层；

在所述第一保护层上形成色阻层；

扫描所述色阻层表面的颗粒物以获取所述颗粒物的分布信息，所述颗粒物的分布信息包括颗粒物的大小以及数量；

根据所述颗粒物的分布信息确定所述预设电场参数；

在所述色阻层上方施加预设电场参数的交变电场，以使所述色阻层表面的颗粒物生成挥发性物质；

抽走所述挥发性物质，以消除所述色阻层表面的颗粒物；

根据消除所述颗粒物后的所述薄膜晶体管基板形成所述阵列基板。

2.如权利要求1所述的阵列基板制造方法，其特征在于，所述预设电场参数包括预设电浆能量参数、预设气体流量参数以及所述交变电场的预设持续时长。

3.如权利要求1所述的阵列基板制造方法，其特征在于，在真空环境下在所述色阻层的上方施加预设电场参数的交变电场，以消除所述色阻层表面的颗粒物。

4.如权利要求1所述的阵列基板制造方法，其特征在于，所述交变电场通过射频电源产生。

5.如权利要求1所述的阵列基板制造方法，其特征在于，所述根据消除所述颗粒物后的所述薄膜晶体管基板形成所述阵列基板的步骤包括：

在消除表面颗粒物的所述色阻层上方涂布第二保护层；

在所述第二保护层上方涂布金属电极膜层；

在所述金属电极膜层上方涂布液晶以形成所述阵列基板。

6.一种阵列基板，所述阵列基板包括：

薄膜晶体管基板；

第一保护层，所述第一保护层涂布于所述薄膜晶体管基板上；

色阻层，所述色阻层涂布于所述第一保护层上；

第二保护层，所述第二保护层涂布于所述色阻层上；

金属电极膜层，所述金属电极膜层涂布于所述第二保护层上；

液晶层，所述液晶层涂布于所述金属电极膜层上；

其特征在于，所述阵列基板根据1-5任一项权利要求中的阵列基板制造方法所制成。

7.如权利要求6所述的阵列基板，所述薄膜晶体管基板上还涂布有栅电极，其特征在于，所述栅电极采用铜/钼结构。

8.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括阵列基板，与所述阵列基板集成设置的彩膜基板，以及涂布于所述阵列基板和彩膜基板之上的液晶层，其中，所述阵列基板根据1-5任一项权利要求中的阵列基板制造方法所制成。