[发明专利]阵列基板制造方法、阵列基板以及显示面板

说明书

本发明公开了一种阵列基板及其制造方法，所述阵列基板制造方法包括：在薄膜晶体管基板上涂布第一保护层；在所述第一保护层上依次形成遮光层以及色阻层；在所述色阻层的上方施加预设电场参数的交变电场，以消除所述色阻层表面的颗粒物；根据消除所述颗粒物后的所述薄膜晶体管基板形成所述阵列基板。解决了阵列基板色阻层表面颗粒粗糙导致保护层破裂进而导致液晶产生气泡的技术问题，达到了提高色阻层的技术效果。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板制造方法、阵列基板以及显示面板。

背景技术

COA(Color Filter On Array，阵列基板与彩色滤光片集成)技术是将原彩色滤光片基板和薄膜晶体管基板集合在一起，即将色阻涂布于已完成的阵列基板上形成彩色滤光层的集成技术，传统阵列基板与彩色滤光片集成技术制程往往会出现因色阻层表面颗粒粗糙而导致色阻层上的钝化层破裂或透明电极膜质不均发生破裂，从而导致色阻层的气体透过钝化层溢出至液晶层，进而导致液晶产生气泡。

发明内容

本发明实施例通过提供一种阵列基板制造方法、阵列基板以及显示面板，旨在解决现有技术中阵列基板色阻层表面颗粒粗糙导致保护层破裂进而导致液晶产生气泡的技术问题。

为实现上述目的，本发明实施例提供一种阵列基板制造方法，所述阵列基板制造方法包括以下步骤：

在薄膜晶体管基板上涂布第一保护层；

在所述第一保护层上依次形成遮光层以及色阻层；

在所述色阻层的上方施加预设电场参数的交变电场，以消除所述色阻层表面的颗粒物；

根据消除所述颗粒物后的所述薄膜晶体管基板形成所述阵列基板。

可选地，所述在所述色阻层的上方施加预设电场参数的交变电场，以消除所述色阻层表面的颗粒物的步骤包括：

在所述色阻层上方施加预设电场参数的交变电场，以使所述色阻层表面的颗粒物生成挥发性物质；

抽走所述挥发性物质，以消除所述色阻层表面的颗粒物。

可选地，所述在所述彩色滤光片上方施加预设电场参数的交变电场，以使所述色阻层表面的颗粒物生成挥发性物质的步骤之前包括：

获取电场参数；

根据所述预设电场参数施加交变电场，以使所述色阻层表面的颗粒物生成挥发性物质。

可选地，所述获取电场参数的步骤包括：

扫描色阻层表面的颗粒物以获取所述颗粒物的分布信息，所述颗粒物的分布信息包括颗粒物的大小以及数量；

根据所述颗粒物的分布信息确定所述预设电场参数。

可选地，所述预设电场参数包括预设电浆能量参数、预设气体流量参数以及所述交变电场的预设持续时长。

可选地，所述薄膜晶体管基板与所述色阻层处于真空状态。

可选地，所述交变电场通过射频电源产生。

可选地，所述色阻层表面的颗粒物包括含碳氢的污染物或有机物。

可选地，所述根据消除所述颗粒物后的所述薄膜晶体管基板形成所述阵列基板的步骤包括：

在消除表面颗粒物的所述色阻层上方涂布第二保护层；

在所述第二保护层上方涂布金属电极膜层；

在所述金属电极膜层上方涂布液晶以形成所述阵列基板。

为实现上述目的，本发明实施例还提供一种阵列基板，所述阵列基板包括：

薄膜晶体管基板；