[发明专利]一种用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置在审

专利信息
申请号: 202110718670.7 申请日: 2021-06-28
公开(公告)号: CN113376977A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 耿克涛;刘金 申请(专利权)人: 宁波润华全芯微电子设备有限公司
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30;G03F7/16
代理公司: 宁波高新区永创智诚专利代理事务所(普通合伙) 33264 代理人: 胡小永
地址: 315400 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 显影 hmds 防漏 保护装置
【权利要求书】:

1.一种用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置,所述用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置包括:

HMDS罐(1),用于提供HMDS气体;

密封保护罩(2),HMDS罐(1)安装在密封保护罩(2)内部,密封保护罩(2)内部处于密封状态;

氮气上料机构(3),设置在密封保护罩(2)旁侧,氮气上料机构(3)的输出端延伸至密封保护罩(2)内部,用于提供氮气;

其特征在于,所述用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置还包括:

机架,设置在密封保护罩(2)旁侧;

排风机构(4),安装在机架上,排风机构(4)的抽气端设置在密封保护罩(2)内部,排风机构(4)的排气端设置在密封保护罩(2)外侧,用于对密封保护罩(2)内部进行抽气操作,实现密封保护罩(2)内部气体排气功能;

吸收机构(5),设置在排风机构(4)上,用于对排风机构(4)抽取的气体中的HMDS进行吸收收集,将剩余气体排出;

自动回收机构(6),设置在机架上,自动回收机构(6)的抽气端与密封保护罩(2)内侧顶端密封连接,用于将泄露的HMDS气体压缩收集;

控制器(7),设置在密封保护罩(2)外侧壁上;

泄露检测传感器(8),设置在密封保护罩(2)内侧,泄露检测传感器(8)与控制器(7)电连接,用于检测密封保护罩(2)内部的HMDS浓度,从而检测HMDS是否泄露;

密封保护罩(2)外侧壁上安装有警报器(33),警报器(33)与泄露检测传感器(8)和控制器(7)均电连接,用于在泄露检测传感器(8)检测到泄露是进行报警。

2.根据权利要求1所述的一种用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置,其特征在于,排风机构(4)有第一抽气泵(9)、第一抽气管(10)、第一导气管(11)、排气管(12)和第三电磁阀(13),第一抽气泵(9)安装在机架上,第一抽气管(10)的一端与密封保护罩(2)的内部密封连通,第一抽气管(10)的另一端与第一抽气泵(9)的抽气端连通,第一导气管(11)的一端与第一抽气泵(9)的出气端连通,第一导气管(11)的另一端与吸收机构(5)进气端连通,排气管(12)的一端与吸收机构(5)的排气端连通,第三电磁阀(13)安装在第一抽气管(10)靠近密封保护罩(2)的一端。

3.根据权利要求2所述的一种用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置,其特征在于,排风机构(4)还包括压差表(16),压差表(16)安装在第一导气管(11)上。

4.根据权利要求2所述的一种用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置,其特征在于,排风机构(4)还包括第一气体流量检测传感器(14)和第一单向阀(15),第一气体流量检测传感器(14)固定安装在排气管(12)上,第一单向阀(15)安装在排气管(12)上,第一单向阀(15)位于第一气体流量检测传感器(14)远离吸收机构(5)的一端。

5.根据权利要求2所述的一种用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置,其特征在于,吸收机构(5)包括吸收塔(17)、废液收集箱(18)和喷液组件,吸收塔(17)竖直安装在机架的旁侧,废液收集箱(18)设置在吸收塔(17)的正下方,吸收塔(17)的排液管与废液收集箱(18)内部连通,喷液组件安装在机架上,喷液组件的输出端穿过吸收塔(17)的顶端设置在吸收塔(17)的内部。

6.根据权利要求5所述的一种用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置,其特征在于,喷液组件包括磷酸存放箱(19)、导液管(20)和雾化喷头(21),磷酸存放箱(19)设置在机架顶端,雾化喷头(21)设有若干个,若干个雾化喷头(21)沿着吸收塔(17)轴线环形分布在吸收塔(17)的顶端,雾化喷头(21)的输出端贯穿吸收塔(17)顶端延伸至吸收塔(17)的内部,导液管(20)的一端与磷酸存放箱(19)内部连通,导液管(20)的另一端分别与若干个雾化喷头(21)的输入端依次连通。

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