[发明专利]一种用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置

说明书

本发明涉及HMDS处理设备技术领域，具体是涉及一种用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置，包括：HMDS罐；密封保护罩；氮气上料机构；还包括：机架；排风机构，安装在机架上，排风机构的抽气端设置在密封保护罩内部；吸收机构，设置在排风机构上；自动回收机构，设置在机架上，自动回收机构的抽气端与密封保护罩内侧顶端密封连接；控制器，设置在密封保护罩外侧壁上；泄露检测传感器，设置在密封保护罩内侧，泄露检测传感器与控制器电连接；密封保护罩外侧壁上安装有警报器，警报器与泄露检测传感器和控制器均电连接，本发明所示设备可以完全杜绝因为HMDS泄露造成的安全事故，若发生泄露则发出报警信号，切断原料供应，避免持续泄露，对泄露的HMDS进行收集。

技术领域

本发明涉及HMDS处理设备技术领域，具体是涉及一种用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置。

背景技术

现有技术中，在涂覆光刻胶之前，人们需将基片放入HMDS预处理设备中进行预处理，其目的在于降低HMDS处理后的硅片与光刻胶的接触角，进而降低匀胶时光刻胶在硅片表面铺展开的难度，提高光刻胶与硅片的黏附性。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

因HMDS是很强的致癌、致病物质，被列为极高毒性物质，如直接排放会对环境造成很大污染，在很多实验室、小型工厂、科研教学单位，并无专用废气收集管道，尾气直接排放到大气之中，如直接排放会对环境造成很大污染，且对操作人员会有较大的伤害，具有一定安全隐患；

如中国发明专利CN111708259B所公开的一种匀胶显影机增粘单元，属于光刻设备技术领域，包括底盘、上盖、喷淋装置以及支撑盘，所述底盘和上盖上均设置有加热装置，所述上盖位于底盘的上端且与底盘配合形成真空腔，所述底盘的底部设置有真空泵接口，所述喷淋装置设置在上盖内，所述支撑盘设置在底盘内用于支撑晶圆，所述支撑盘与底盘转动连接且通过电机驱动转动，所述喷淋装置包括整流板、喷管、喷头和连接管，所述喷管在水平面内呈螺旋形布置；该结构的匀胶显影机没有很好的是实现防漏保护。

发明内容

一、要解决的技术问题

本发明是针对现有技术所存在的上述缺陷，特提出一种用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置，解决了HMDS容易泄露以及如何收集处理的问题。

二、技术方案

为解决上述技术问题，本发明提供一种用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置，包括：

HMDS罐，用于提供HMDS气体；

密封保护罩，HMDS罐安装在密封保护罩内部，密封保护罩内部处于密封状态；

氮气上料机构，设置在密封保护罩旁侧，氮气上料机构的输出端延伸至密封保护罩内部，用于提供氮气；

还包括：

机架，设置在密封保护罩旁侧；

排风机构，安装在机架上，排风机构的抽气端设置在密封保护罩内部，排风机构的排气端设置在密封保护罩外侧，用于对密封保护罩内部进行抽气操作，实现密封保护罩内部气体排气功能；

吸收机构，设置在排风机构上，用于对排风机构抽取的气体中的HMDS进行吸收收集，将剩余气体排出；

自动回收机构，设置在机架上，自动回收机构的抽气端与密封保护罩内侧顶端密封连接，用于将泄露的HMDS气体压缩收集；

控制器，设置在密封保护罩外侧壁上；

泄露检测传感器，设置在密封保护罩内侧，泄露检测传感器与控制器电连接，用于检测密封保护罩内部的HMDS浓度，从而检测HMDS是否泄露；