[发明专利]样本分析系统和装置、清洗液制备装置及清洗液供应方法

权利要求书

1.一种清洗液的制备方法，包括：

在存放部件存放清洗样本分析装置所使用的清洗液，

使用所述存放部件中存放的所述清洗液，

所述存放部件内的所述清洗液的余量低于第一量时，向所述存放部件补给清洗液，

在满足了预先设定的条件时，在使得用于向所述存放部件供应清洗液的流路的阀关闭的状态下，使用所述清洗液直至所述存放部件内的所述清洗液的余量变为比所述第一量少的第二量，之后，打开所述阀，向所述存放部件补给清洗液。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：

所述第一量是比所述存放部件的容量的一半多的量，所述第二量是比所述存放的一半少的量。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：

所述预先设定的条件是指所述清洗液制备装置启动、设置于所述清洗液制备装置的内部时钟的日期改变或者经过用户预先设定的时刻。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，还包括：

显示用于从用户受理所述条件的设定的界面。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：

所述样本分析装置包括有探针的试剂分装部件并用所述清洗液清洗所述探针，其中，所述探针用于分装用于测定样本的试剂。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：

所述第二量是能够清洗所述探针数次的量。

7.一种向样本分析装置供应清洗液的清洗液供应装置，包括：

存放部件，存放清洗所述样本分析装置所使用的清洗液；

控制部件；

其中，所述控制部件进行如下操作：

将所述存放部件中存放的所述清洗液供应至所述样本分析装置；

当所述存放部件内的所述清洗液的余量低于第一量时，向所述存放部件补给清洗液；

在满足了预先设定的条件时，在使得用于向所述存放部件供应清洗液的流路的阀关闭的状态下，使用所述清洗液直至所述存放部件内的所述清洗液的余量变为比所述第一量少的第二量，之后，打开所述阀，向所述存放部件补给清洗液。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于：

所述第一量是比所述存放部件的容量的一半多的量，所述第二量是比所述存放的一半少的量。

9.根据权利要求7所述的装置，其特征在于：

所述预先设定的条件是指所述清洗液制备装置启动、设置于所述清洗液制备装置的内部时钟的日期改变或者经过用户预先设定的时刻。

10.根据权利要求7所述的装置，其特征在于：

还包括显示部件；

其中，所述控制部件使所述显示部件显示用于从用户受理所述条件的设定的界面。

11.根据权利要求7所述的装置，其特征在于：

所述样本分析装置包括有探针的试剂分装部件并用所述清洗液清洗所述探针，其中，所述探针用于分装用于测定样本的试剂。

12.根据权利要求7所述的装置，其特征在于：

所述第二量是能够清洗所述探针数次的量。