[发明专利]样本分析系统和装置、清洗液制备装置及清洗液供应方法

说明书

本发明提供一种能够使新制备的清洗液占存放的清洗液的大部分并能用存放的清洗液迅速清洗样本分析装置的样本分析系统、清洗液制备装置、样本分析装置以及清洗液供应方法。清洗液的制备方法包括：在存放部件存放清洗样本分析装置所使用的清洗液，使用所述存放部件中存放的所述清洗液，所述存放部件内的所述清洗液的余量低于第一量时，向所述存放部件补给清洗液，在满足了预先设定的条件时，在使得用于向所述存放部件供应清洗液的流路的阀关闭的状态下，使用所述清洗液直至所述存放部件内的所述清洗液的余量变为比所述第一量少的第二量，之后，打开所述阀，向所述存放部件补给清洗液。

本申请是申请号为201610896507.9、申请日为2016年10月14日、名称为“样本分析系统和装置、清洗液制备装置及清洗液供应方法”的由同一申请人提交的中国发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种向样本分析装置供应清洗液的样本分析系统、清洗液制备装置、样本分析装置及清洗液供应方法。

背景技术

专利文献1中公开了一种混合RO水和高浓度试剂来制备用于清洗样本分析装置的测定部件的液体的装置。此装置在供应室内存放混合RO水和高浓度试剂而制备的液体。存放在供应室的液体供应到测定部件，并用于清洗测定部件。

先行技术文献

专利文献

专利文献1：特开（日本专利公开）2010-230541号公报。

发明内容

发明要解决的课题

在此，在专利文献1公开的装置中设置有浮动开关，该浮动开关用于检测供应室中是否收纳有约为供应室收纳量一半的液体，以便根据供应指示迅速向测定部件运送用于清洗的液体，如果收纳在供应室中的液体少于供应室收纳量的一半，则向供应室供应约为供应室收纳量一半的液体。因此，新制备的用于清洗的液体仅能占所存放的液体量的约一半。用于清洗的液体最好在制备后尽快用于清洗。因此，人们希望有一种能够满足下述条件的装置：新制备的液体占所存放的用于清洗的液体的大部分，且能够用存放的液体迅速地清洗样本分析装置。

解决课题的手段

本发明第一技术方案中的样本分析系统包括清洗液制备装置和样本分析装置。清洗液制备装置制备清洗液。样本分析装置具有测定样本的测定部件以及用于存放清洗液制备装置所制备的清洗液的存放部件，并用清洗液清洗测定部件的至少一部分。清洗液制备装置能够选择性地执行第一补给模式和第二补给模式。第一补给模式是当存放部件中的液量变为第一量时向存放部件补给清洗液的模式。第二补给模式是当存放部件中的液量变为比第一量少的第二量时向存放部件补给清洗液的模式。

优选地，所述清洗液制备装置以所述第一补给模式向所述存放部件补给所述清洗液，并在满足了预先设定的条件时执行所述第二补给模式。

优选地，所述测定部件包括有探针的试剂分装部件并用所述清洗液清洗所述探针，其中，所述探针用于分装用于测定样本的试剂。

优选地，在所述第一补给模式下，所述清洗液制备装置向所述存放部件补给比所述存放部件所存放的量少的所述清洗液；在所述第二补给模式下，所述清洗液制备装置向所述存放部件补给比所述存放部件所存放的量多的所述清洗液。

优选地，所述第二量是能够清洗所述探针数次的量。

优选地，所述清洗液制备装置包括：向所述存放部件供应制备的所述清洗液的供应部件；以及控制所述供应部件的控制部件；其中，在所述第一补给模式下，所述控制部件控制所述供应部件在所述存放部件的液量变为第一量时向所述存放部件供应所述清洗液，在所述第二补给模式下，所述控制部件控制所述供应部件在所述存放部件的液量变为所述第二量时向所述存放部件供应所述清洗液。

优选地，所述存放部件包括检测出液量变为所述第一量的第一检测部件以及检测出液量变为所述第二量的第二检测部件，所述控制部件基于所述第一检测部件和所述第二检测部件的检测结果控制所述供应部件。