[发明专利]结构变动检测方法、电子设备及存储介质有效

专利信息
申请号: 202110728508.3 申请日: 2021-06-29
公开(公告)号: CN113379816B 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 李绪琴;薛远;王亚运;曹天宇;季栋;户磊 申请(专利权)人: 北京的卢深视科技有限公司;合肥的卢深视科技有限公司
主分类号: G06T7/507 分类号: G06T7/507;G06T7/80
代理公司: 北京智晨知识产权代理有限公司 11584 代理人: 张婧
地址: 100083 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 结构 变动 检测 方法 电子设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种结构变动检测方法,其特征在于,所述方法包括:

获取结构光相机的散斑检测图和深度检测图;

对所述散斑检测图进行阴影检测,获取所述散斑检测图的非阴影区域;

根据所述非阴影区域内各散斑像素点的灰度值、各所述散斑像素点的位置和各所述散斑像素点的数量获取所述散斑检测图的局部极值区域;

将所述局部极值区域和所述非阴影区域的比值作为所述散斑检测图的清晰度;

当所述清晰度满足预设清晰条件时,获取所述散斑检测图与预设的散斑参考图之间的偏差信息;

根据所述散斑检测图和所述深度检测图获取所述深度检测图的空洞率;

当所述偏差信息满足预设偏差条件且所述空洞率满足预设空洞条件时,确定所述结构光相机的结构发生变动。

2.根据权利要求1所述的结构变动检测方法,其特征在于,

所述当所述偏差信息满足预设偏差条件且所述空洞率满足预设空洞条件时,确定所述结构光相机的结构变动包括:

当所述偏差条件满足所述预设偏差条件时,检测所述空洞率是否满足所述预设空洞条件;

当所述空洞率满足所述预设空洞条件时,则确定所述结构光相机的结构变动。

3.根据权利要求1或2所述的结构变动检测方法,其特征在于,所述获取所述散斑检测图与预设的散斑参考图之间的偏差信息包括:

利用网格法在所述散斑检测图上选取目标像素点,其中,所述目标像素点是所述散斑检测图的各散斑像素行上的部分散斑像素点;

将所述目标像素点与所述散斑参考图中的参考像素点进行像素点匹配,获取与所述目标像素点匹配的匹配像素点;

获取所述匹配像素点的视差信息,并根据所述视差信息获取所述偏差信息。

4.根据权利要求3所述的结构变动检测方法,其特征在于,所述根据所述视差信息获取所述偏差信息包括:

根据预设的视差信息与点偏差信息的对应关系,获取与所述匹配像素点的视差信息对应的点偏差信息,并将所述点偏差信息作为与所述匹配像素点匹配的所述目标像素点的点偏差信息;

根据所述散斑检测图的各散斑像素行上的所述目标像素点对应的所述点偏差信息获取所述各散斑像素行的行偏差信息;

根据所述各散斑像素行的行偏差信息获取所述偏差信息。

5.根据权利要求1或2所述的结构变动检测方法,其特征在于,所述根据所述散斑检测图和所述深度检测图获取所述深度检测图的空洞率包括:

获取所述散斑检测图中各散斑像素点对应的散斑掩膜值,并获取所述散斑掩膜值为清晰掩膜值的所述散斑像素点个数,其中,所述散斑掩膜值为所述清晰掩膜值或非清晰掩膜值;

获取所述深度检测图中各深度像素点对应的深度掩膜值,并获取所述深度掩膜值为显著掩膜值的所述深度像素点个数,其中,所述深度掩膜值为所述显著掩膜值或非显著掩膜值;

将所述深度像素点个数和所述散斑像素点个数的比值作为所述空洞率。

6.根据权利要求5所述的结构变动检测方法,其特征在于,所述获取所述散斑检测图中各散斑像素点对应的散斑掩膜值包括:

当所述散斑像素点的灰度值不满足所述预设第一灰度条件时,则所述散斑像素点对应的所述散斑掩膜值为所述非清晰掩膜值;

当所述散斑像素点的灰度值满足所述预设第一灰度条件时,获取所述散斑像素点对应的预设窗口内所有散斑像素点的灰度平均值和灰度标准差;

根据所述灰度平均值和所述灰度标准差对所述散斑像素点的灰度值进行矫正,获取所述散斑像素点的矫正灰度值;

当所述散斑像素点的矫正灰度值满足预设第二灰度条件时,则所述散斑像素点对应的所述散斑掩膜值为所述清晰掩膜值;

当所述散斑像素点的矫正灰度值不满足所述预设第二灰度条件时,则所述散斑像素点对应的所述散斑掩膜值为所述非清晰掩膜值。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京的卢深视科技有限公司;合肥的卢深视科技有限公司,未经北京的卢深视科技有限公司;合肥的卢深视科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110728508.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top