[发明专利]等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其具备：

多个等离子体处理室，各等离子体处理室的内部具有供被处理体载置的载置台；

动叶片和静叶片，该动叶片和静叶片配置于所述多个等离子体处理室中的各等离子体处理室的所述载置台的周围；

控制部，其控制所述动叶片的旋转速度；以及

排气空间，其配置于所述多个等离子体处理室的下方，与所述多个等离子体处理室中的各等离子体处理室连接。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

所述多个等离子体处理室中的各等离子体处理室的所述动叶片被独立地进行旋转控制。

3.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

构成所述动叶片的多个叶片和构成所述静叶片的多个叶片各自倾斜，且相互交替地配置。

4.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，

构成所述动叶片的多个叶片和构成所述静叶片的多个叶片各自倾斜，且相互交替地配置。

5.根据权利要求1～4中的任一项所述的等离子体处理装置，其中，

在所述排气空间配置有排气部。

6.根据权利要求1～4中的任一项所述的等离子体处理装置，其中，

在所述多个等离子体处理室中的至少一个等离子体处理室的内部设置有将所述排气空间与等离子体处理空间分隔的至少一个挡板。

7.根据权利要求5所述的等离子体处理装置，其中，

在所述多个等离子体处理室中的至少一个等离子体处理室的内部设置有将所述排气空间与等离子体处理空间分隔的至少一个挡板。

8.根据权利要求6所述的等离子体处理装置，其中，

所述至少一个挡板沿上下方向移动或者旋转。

9.根据权利要求7所述的等离子体处理装置，其中，

所述至少一个挡板沿上下方向移动或者旋转。

10.一种等离子体处理装置，其具备：

第1等离子体处理室；

第2等离子体处理室，其与所述第1等离子体处理室相邻；

第1载置台，其配置于所述第1等离子体处理室内，供被处理体载置；

第2载置台，其配置于所述第2等离子体处理室内，供被处理体载置；

第1可动构件和第1静止构件，该第1可动构件和第1静止构件配置于所述第1载置台的周围，所述第1可动构件具有多个第1动叶片，所述第1静止构件具有多个第1静叶片，所述多个第1动叶片和所述多个第1静叶片沿纵方向交替排列，在所述第1可动构件和第1静止构件的下方形成第1排气空间；

第2可动构件和第2静止构件，该第2可动构件和第2静止构件配置于所述第2载置台的周围，所述第2可动构件具有多个第2动叶片，所述第2静止构件具有多个第2静叶片，所述多个第2动叶片和所述多个第2静叶片沿纵方向交替排列，在所述第2可动构件和第2静止构件的下方形成第2排气空间；

至少一个驱动部，其构成为同时或单独地使所述第1可动构件和所述第2可动构件旋转；

控制部，其控制所述至少一个驱动部；以及

共用的真空泵，其与所述第1排气空间和所述第2排气空间连通。

11.根据权利要求10所述的等离子体处理装置，其中，

在所述第1等离子体处理室和所述第2等离子体处理室中的至少一个等离子体处理室的内部设置有将所述排气空间与等离子体处理空间分隔的至少一个挡板。

12.根据权利要求11所述的等离子体处理装置，其中，

所述至少一个挡板沿上下方向移动或者旋转。