[发明专利]基于梯度蒸发模具的CVD-Tax在审

专利信息
申请号: 202110739777.X 申请日: 2021-06-30
公开(公告)号: CN113402303A 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: 张雨雷;帅康;陈慧;张建 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: C04B41/87 分类号: C04B41/87
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 王鲜凯
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 基于 梯度 蒸发 模具 cvd ta base sub
【说明书】:

发明涉及一种基于梯度蒸发模具的CVD‑TaxHf1‑xC固溶体涂层的制备方法,将C/C基体悬挂于化学气相沉积炉中;将前驱体HfCl4和TaCl5粉料放置于蒸发容器内,并置于化学气相沉积炉的低温挥发区;将化学气相沉积炉抽真空至5Kpa,并且关闭阀门以及真空泵后保压通入氩气;加热两步,第一步以7℃/min加热到900℃,第二步程序以6℃/min加热到1100~1250℃,使炉腔在氩气保护下升温至预设温度;沉积完成后挺直通入氢气和甲烷,继续通入氩气对炉腔进行清洗和降温,使炉体自然冷却,得到带有TaxHf1‑xC固溶体涂层的C/C复合材料。本发明的制备工艺简单易操作,制备周期短,能够适用于形状复杂的复合材料构件,深化了TaxHf1‑xC固溶体陶瓷其在超高温材料领域中的应用。

技术领域

本发明属于超高温陶瓷技术领域,涉及一种基于梯度蒸发模具的CVD-TaxHf1-xC固溶体涂层的制备方法。

背景技术

CN106699233B报道了两种含化学气相共沉积ZrB2-TaB2复合涂层及其制备方法,该方法采用化学气相沉积(CVD)方法制备了含有ZrB2-TaB2固溶体的共沉积复合涂层(Zr(Ta)B4),另一种含有HfB2-TaB2固溶体的共沉积复合涂层(Hf(Ta)B4),这两种共沉积复合涂层比单一CVD-ZrB2涂层或CVD-HfB2具有更高的抗氧化和抗烧蚀性能。

文献1“Ghaffari S A,Faghihi-Sani M A,Golestani-Fard F,et al.Diffusionand solid solution formation between the binary carbides of TaC,HfC and ZrC[J].International Journal of Refractory Metals and Hard Materials,2013,41:180-184.”报道了HfC-TaC二元体系的相变演化,固溶体的形成和扩散行为。研究发现了TaC与HfC形成固溶体的过程以及TaC在HfC中的扩散行为。由此说明了,HfC和TaC形成TaxHf1-xC陶瓷固溶体的方式。

文献2“Gaballa O,Cook B A,Russell A M.Reduced-temperature processingand consolidation of ultra-refractory Ta4HfC5[J].International Journal ofRefractory Metals and Hard Materials,2013,41:293-299.”通过热压烧结法将TaC、HfC和WC粉末混合,经受高能研磨和热压,在相对较低的1500℃制备Ta4HfC5样品。

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