[发明专利]一种产酸菌JC-H及其应用与产酸菌JC-H的培养、鉴定方法在审
申请号: | 202110770418.0 | 申请日: | 2021-07-08 |
公开(公告)号: | CN114032178A | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | 高天鹏;王雪莹;刘圆;李广文;张九东;申圆圆;其他发明人请求不公开姓名 | 申请(专利权)人: | 西安文理学院 |
主分类号: | C12N1/14 | 分类号: | C12N1/14;C12N1/02;C12P7/40;C12Q1/686;C12Q1/04;G01N31/16;C12R1/685 |
代理公司: | 中国商标专利事务所有限公司 11234 | 代理人: | 郝震 |
地址: | 710065 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 产酸菌 jc 及其 应用 培养 鉴定 方法 | ||
本发明公开了一种产酸菌JC‑H,该菌株命名为:黑曲霉(Aspergillusniger)JC‑H,已于2021年01月04日保藏于中国微生物菌种保藏管理委员会普通微生物中心,保藏编号为CGMCC NO:21424。可在产酸中进行应用,且于温度为30℃、pH为6、转速为160rpm条件下利用发酵培养基进行恒温震荡培养产酸效率最高。本发明的产酸菌,能够为生物产酸提供菌种资源。
技术领域
本发明属于环境微生物技术领域,涉及一种产酸菌JC-H及其应用,还涉及该产酸菌JC-H的培养、鉴定方法。
背景技术
矿产资源是人类生产、生活以及社会经济快速发展的物质基础,也是保障国家安全、维护国家发展利益的战略性资源。但是,不合理的开采会造成开采区及周围自然环境的极大破坏,每年的金属及非金属尾矿排放量达3亿吨,尾矿的累积堆存量近200亿吨。矿区中尾矿、废渣堆积在自然环境中,使尾矿中重金属渗透到土壤环境中的种类和数量也随之增多,不断向周边环境释放重金属,给当地自然生态环境和生产生活带来了较大的生态健康风险。近年来,我国发生的重金属污染事件也是屡见不鲜,如血铅事件、镉米事件等问,也使得重金属污染越来越受到广泛关注。
当前针对矿区重金属污染土壤资源进行修复的过程中,主要使用的是物理修复、化学修复和生物修复。在实际修复过程中:物理方法主要有换土客土、热处理法、电动修复等方法,然而物理方法一般需要花费大量的人力、物力、财力等,且一般仅限于小面积的重金属污染处理;化学方法主要有浸提、改良剂固定化、沉淀、离子交换等方法,化学修复方法虽然操作简单,也可以原位修复,但普遍会带来二次污染,甚至破坏土壤结构,且耗费较大。因此,这几种方法在技术上、经济上难以实现,也难以为公众所接受,面对大规模的重金属污染更是难以应用。而生物修复生物方法被认为是环境重金属污染治理的最具前景的新方法,重金属的生物修复就是利用生物作用,削减、净化环境中的重金属或降低重金属的毒性。
迄今为止,微生物修复正在引起国内外专家的关注,所以研究利用微生物修复矿区重金属污染土壤具有十分重要的意义。
发明内容
本发明的目的是提供一种产酸菌JC-H及其应用与产酸菌JC-H的培养、鉴定方法,为生物产酸并改良尾矿随意处理导致周边区域重金属污染土壤问题提供了菌种资源。
本发明所采用的技术方案是,一种产酸菌JC-H,该菌株命名为:黑曲霉(Aspergillus niger)JC-H,已于2021年01月04日保藏于中国微生物菌种保藏管理委员会普通微生物中心,保藏编号为CGMCC NO:21424。
产酸菌JC-H的培养方法,具体为:
步骤1、菌株的分离培养
采集受重金属污染严重的土壤作为样品;
制备查式培养基:将蔗糖30g、NaNO3 3g、K2HPO4 1g、KCl 0.5g,FeSO4·7H2O 0.01g、琼脂20g、蒸馏水1L,混合后,于121℃高温灭菌20min,接着倒平板待其凝固,制成无菌的查式培养基,用来进行分离培养;
将采集的土壤样品与无菌水混合制备土壤悬液,土壤悬液经梯度稀释后涂布于培养基表面,并编号,于30℃恒温培养箱中培养3-5d;
步骤2、鉴别产酸菌株
制备产酸鉴别培养基:将1.6%溴甲酚紫加入查式固体培养基中,在121℃高温灭菌20min,倒平板待其凝固后制成无菌的产酸鉴别培养基备用,其颜色为紫色;
将步骤1培养后的菌株取出,观察菌株形态,挑选出不同形态菌落,划线培养于产酸鉴别培养基;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安文理学院,未经西安文理学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110770418.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于磁控溅射设备的磁源模组及磁控溅射设备
- 下一篇:递增能量的机构