[发明专利]介质膜系设计方法及镀膜方法、盖板有效
申请号: | 202110771981.X | 申请日: | 2021-07-08 |
公开(公告)号: | CN113376832B | 公开(公告)日: | 2022-08-19 |
发明(设计)人: | 田兴波;贾正宝;龙海红;朱斌;陈小群 | 申请(专利权)人: | 蓝思科技(长沙)有限公司 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G02B1/10;C23C14/35;C23C14/08;C23C14/10 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 宋南 |
地址: | 410100 湖南省长沙*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 介质 设计 方法 镀膜 盖板 | ||
1.一种介质膜系设计方法,其特征在于,包括以下步骤:
(a)确定目标介质膜色板颜色:用测色设备测试目标介质膜色板,得到其Lab值和波长-反射率目标曲线;
(b)膜系设计:将所述波长-反射率目标曲线导入膜系设计软件中,并选取膜层材料进行设计,使设计曲线与所述波长-反射率目标曲线一致,得到膜系结构和膜厚,所述设计曲线对应所述Lab值和色度坐标Lxy值;
(c)优化膜系设计:当膜系膜厚大于500nm时,将步骤(b)获取的色度坐标Lxy值重新输入膜系设计软件中,同时输入膜厚范围100-500nm,并沿用步骤(b)的膜层材料进行优化设计,筛选出符合要求的优化设计曲线,同时得到优化的膜系结构和膜厚以及优化的Lab值和Lxy值。
2.根据权利要求1所述的介质膜系设计方法,其特征在于,步骤(b)中,膜系设计软件为TFC软件。
3.根据权利要求1所述的介质膜系设计方法,其特征在于,步骤(b)和步骤(c)中,膜层材料包括高折射率材料和低折射率材料;
高折射率材料包括五氧化二铌、五氧化三钛或氮化硅中的一种;
低折射率材料包括二氧化硅或氟化镁中的一种。
4.根据权利要求1-3任一项所述的介质膜系设计方法,其特征在于,当目标介质膜色板具有如下颜色时:
色板 R T L 45.93 93.69 a 2529 -9 b -12.5 4.58 色度坐标 R T L 15.22 84.56 x 0.354 0.329 y 0.27 0.348
膜系设计后获得的膜系结构和膜厚结果为:
优化膜系设计后获得的优化膜系结构和膜厚结果为:
优化膜系设计后获得的优化Lab值和优化Lxy值结果为:
优化色板 R T L 45.93 93.73 a 25.24 -9 b -12.5 4.59 优化色度坐标 R T L 15.22 84.64 x 0.354 0.329 y 0.27 0.348
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