[发明专利]介质膜系设计方法及镀膜方法、盖板有效

专利信息
申请号: 202110771981.X 申请日: 2021-07-08
公开(公告)号: CN113376832B 公开(公告)日: 2022-08-19
发明(设计)人: 田兴波;贾正宝;龙海红;朱斌;陈小群 申请(专利权)人: 蓝思科技(长沙)有限公司
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02B1/10;C23C14/35;C23C14/08;C23C14/10
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 宋南
地址: 410100 湖南省长沙*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 介质 设计 方法 镀膜 盖板
【权利要求书】:

1.一种介质膜系设计方法,其特征在于,包括以下步骤:

(a)确定目标介质膜色板颜色:用测色设备测试目标介质膜色板,得到其Lab值和波长-反射率目标曲线;

(b)膜系设计:将所述波长-反射率目标曲线导入膜系设计软件中,并选取膜层材料进行设计,使设计曲线与所述波长-反射率目标曲线一致,得到膜系结构和膜厚,所述设计曲线对应所述Lab值和色度坐标Lxy值;

(c)优化膜系设计:当膜系膜厚大于500nm时,将步骤(b)获取的色度坐标Lxy值重新输入膜系设计软件中,同时输入膜厚范围100-500nm,并沿用步骤(b)的膜层材料进行优化设计,筛选出符合要求的优化设计曲线,同时得到优化的膜系结构和膜厚以及优化的Lab值和Lxy值。

2.根据权利要求1所述的介质膜系设计方法,其特征在于,步骤(b)中,膜系设计软件为TFC软件。

3.根据权利要求1所述的介质膜系设计方法,其特征在于,步骤(b)和步骤(c)中,膜层材料包括高折射率材料和低折射率材料;

高折射率材料包括五氧化二铌、五氧化三钛或氮化硅中的一种;

低折射率材料包括二氧化硅或氟化镁中的一种。

4.根据权利要求1-3任一项所述的介质膜系设计方法,其特征在于,当目标介质膜色板具有如下颜色时:

色板RT
L45.9393.69
a2529-9
b-12.54.58
色度坐标RT
L15.2284.56
x0.3540.329
y0.270.348

膜系设计后获得的膜系结构和膜厚结果为:

优化膜系设计后获得的优化膜系结构和膜厚结果为:

优化膜系设计后获得的优化Lab值和优化Lxy值结果为:

优化色板RT
L45.9393.73
a25.24-9
b-12.54.59
优化色度坐标RT
L15.2284.64
x0.3540.329
y0.270.348

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