[发明专利]介质膜系设计方法及镀膜方法、盖板

说明书

本发明提供了一种介质膜系设计方法及镀膜方法、盖板，涉及镀膜技术领域，介质膜系设计方法包括：(a)用测色设备测试目标介质膜色板，得到其Lab值和目标曲线；(b)将所述目标曲线导入膜系设计软件中，并选取膜层材料进行设计，使设计曲线与所述目标曲线一致，得到膜系结构，所述设计曲线对应所述Lab值和一色度坐标Lxy值；(c)当膜系膜厚大于500nm时，将步骤(b)获取的色度坐标Lxy值重新输入膜系设计软件中，同时输入膜厚范围和膜层材料进行优化设计，筛选出符合要求的优化设计曲线，得到优化的膜系结构，进而用设计出的膜系结构调试镀膜。本发明缓解了现有镀膜技术颜色介质膜膜层太厚造成膜裂和强度下降的问题。

技术领域

本发明涉及镀膜技术领域，尤其是涉及一种介质膜系设计方法及镀膜方法、盖板。

背景技术

随着5G时代的到来，智能手机、智能手表等电子产品广泛普及，消费者对电子产品的要求不仅仅局限于性能、寿命，对视觉效果及外观的要求也越来越高。目前外观炫酷的手机后盖已成为多数消费电子产品厂商中高端机型所追求的设计方向之一，一般情况膜系膜厚越厚，颜色越炫酷，所以开发手机盖板时往往一味追求高膜厚来达到炫酷效果。但是，高膜厚存在几大弊端：一是膜厚太厚，成膜时间长，浪费膜料，效率低，不利于工业化生产；二是膜厚太厚，外观不良及信赖性风险大增，如砂眼不良、掉电镀层、薄膜破裂、玻璃强度受影响等等。因此，急需寻找一种既能满足客户需求又能规避信赖性风险的薄膜制备方法。

另外，仅采用传统的丝印或者喷涂镀膜技术在陶瓷、玻璃或者宝石表面形成的外观效果、抗划伤性等已不能满足其信赖性要求，易对消费者造成审美疲劳的困扰，故此具有强抗划伤性、高附着力、满足各严苛性能测试、赏心悦目令人心情愉悦的薄膜制备工艺具有很大的应用价值。

有鉴于此，特提出本发明。

发明内容

本发明的目的之一在于提供一种介质膜系设计方法，缓解了现有镀膜技术为了追求炫酷效果造成膜裂和强度下降的问题。

本发明的目的之二在于提供一种介质膜系镀膜方法，采用上述介质膜系设计方法设计的膜系程序对基片进行磁控溅射镀膜。

本发明的目的之三在于提供一种盖板，采用上述介质膜系镀膜方法获得。

为了实现本发明的上述目的，特采用以下技术方案：

第一方面，本发明提供了一种介质膜系设计方法，包括以下步骤：

(a)确定目标介质膜色板颜色：用测色设备测试目标介质膜色板，得到其Lab值和波长-反射率目标曲线；

(b)膜系设计：将所述波长-反射率目标曲线导入膜系设计软件中，并选取膜层材料进行设计，使设计曲线与所述波长-反射率目标曲线一致，得到膜系结构和膜厚，所述设计曲线对应所述Lab值和一色度坐标Lxy值；

(c)优化膜系设计：当膜系膜厚大于500nm时，将步骤(b)获取的色度坐标Lxy值重新输入膜系设计软件中，同时输入膜厚范围100-500nm，并沿用步骤(b)的膜层材料进行优化设计，筛选出符合要求的优化设计曲线，同时得到优化的膜系结构和膜厚以及优化的Lab值和Lxy值。

进一步的，步骤(b)中，膜系设计软件为TFC软件。

进一步的，步骤(b)和步骤(c)中，膜层材料包括高折射率材料和低折射率材料；

高折射率材料包括五氧化二铌、五氧化三钛或氮化硅中的一种；

低折射率材料包括二氧化硅或氟化镁中的一种。

第二方面，本发明提供了一种介质膜系镀膜方法，包括以下步骤：

采用上述介质膜系设计方法设计的膜系程序对基片进行磁控溅射镀膜，得到镀层。

进一步的，所述介质膜系镀膜方法包括以下步骤：