[发明专利]定位装置及研磨辅助系统有效

专利信息
申请号: 202110774202.1 申请日: 2021-07-08
公开(公告)号: CN113478383B 公开(公告)日: 2022-08-12
发明(设计)人: 韩俊;刘永祥;宁福英;曾昭孔 申请(专利权)人: 苏州通富超威半导体有限公司
主分类号: B23Q3/00 分类号: B23Q3/00;B24B37/27;B24B37/005;H01L21/68
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 郭栋梁
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 定位 装置 研磨 辅助 系统
【权利要求书】:

1.一种定位装置,用于定位基板上待研磨凸点的中心,其特征在于,包括:

间隔设置的第一夹持件和第二夹持件,所述第一夹持件与所述第二夹持件相对的面上均设有夹持槽,所述夹持槽之间形成用于夹持基板的夹持空间,所述夹持空间沿所述夹持槽的延伸方向具有第一开口和第二开口,且所述第一夹持件和第二夹持件上均设有用于锁紧所述基板的锁紧孔;当所述基板位于所述夹持空间且处于未锁紧状态时,所述基板平行于所述夹持槽延伸方向的第一侧边和第二侧边分别抵靠所述夹持槽,所述基板垂直于所述夹持槽延伸方向的第三侧边与所述第一开口齐平;以及

调距组件,用于沿所述夹持槽的延伸方向调整所述基板在所述夹持空间中的位置;

所述调距组件包括螺杆和螺接在所述螺杆上的套筒,所述螺杆的一端设有旋钮,另一端设有用于抵接所述基板与第三侧边相对的侧边的推板;

通过旋转所述旋钮使得所述螺杆前进,并带动所述推板推动所述基板沿所述夹持槽的延伸方向移动,所述基板移动的距离等于第三侧边与待研磨凸点中心之间的距离。

2.根据权利要求1所述的定位装置,其特征在于,所述推板活动地设置于所述夹持空间内,能够沿所述夹持槽移动。

3.根据权利要求1所述的定位装置,其特征在于,还包括间隔设置的第一固定座和第二固定座,所述第一夹持件可拆卸地连接于所述第一固定座,所述第二夹持件可拆卸地连接于所述第二固定座,所述第一固定座和第二固定座可移动,用于调整所述夹持槽之间的距离。

4.根据权利要求3所述的定位装置,其特征在于,所述第一固定座和第二固定座上均设有开口向上的放置槽,所述第一夹持件和第二夹持件设置于所述放置槽中。

5.根据权利要求3所述的定位装置,其特征在于,还包括底座,所述底座的上表面设有延伸方向垂直于所述夹持槽的延伸方向的直线导槽,所述第一固定座和第二固定座的下表面具有相匹配的导块。

6.根据权利要求5所述的定位装置,其特征在于,所述直线导槽的两端具有用于调整所述第一固定座与第二固定座之间距离,并限制所述第一固定座和第二固定座沿直线导槽向远离彼此的方向移动的限位件,所述限位件的端部抵靠所述导块,使得所述夹持槽之间的距离成为设定值。

7.一种研磨辅助系统,其特征在于,包括权利要求1至6任一项所述的定位装置。

8.根据权利要求7所述的研磨辅助系统,其特征在于,还包括用于测量所述基板在所述夹持空间中位置的测距装置。

9.根据权利要求8所述的研磨辅助系统,其特征在于,还包括用于检测所述基板在研磨过程中是否处于水平状态的水平指示装置,所述水平指示装置包括两个对称的水平臂,两个所述水平臂中的一者连接于所述第一夹持件,另一者连接于所述第二夹持件,且两个所述水平臂相对于所述夹持空间的垂直中心线对称分布。

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