[发明专利]一种改善氧化铝口尾均匀性的测试方法在审
| 申请号： | 202110786467.3 | 申请日： | 2021-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN113529058A | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 蒋王华 | 申请（专利权）人： | 江苏润阳世纪光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/52 | 分类号： | C23C16/52;C23C16/34;C23C16/40 |
| 代理公司： | 南京普睿益思知识产权代理事务所(普通合伙) 32475 | 代理人： | 张丽丽 |
| 地址： | 224007 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 改善 氧化铝 均匀 测试 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种改善氧化铝口尾均匀性的测试方法，其特征在于，包括以下具体步骤：(1)设置实验对比组别，包括：
实验组：将氧化铝单层膜硅片放置在真空沉积室中的石墨舟内，控制其甲基铝通气量为55，功率为7000，通气开关占比为20：1000；
方案1：将氧化铝单层膜硅片放置在真空沉积室中的石墨舟内，控制其三甲基铝通气量为60，功率为6500，通气开关占比为20：1200；
方案2：将氧化铝单层膜硅片放置在真空沉积室中的石墨舟内，控制其三甲基铝通气量为65，功率为6000，通气开关占比为20：1400；
方案3：将氧化铝单层膜硅片放置在真空沉积室中的石墨舟内，控制其三甲基铝通气量为65，功率为6000，通气开关占比为20：1200；
方案4：将氧化铝单层膜硅片放置在真空沉积室中的石墨舟内，控制其三甲基铝通气量为65，功率为5500，通气开关占比为20：1200；
(2)所述方案1以及方案2和实验组进行对比，确定增加三甲基铝的通气量对其片间不均度带来的影响；
(3)所述方案3和方案4进行对比，确定降低功率对其片间不均度带来的影响。
2.根据权利要求1所述的一种改善氧化铝口尾均匀性的测试方法，其特征在于：所述实验组、方案1、方案2、方案3以及方案4中采用的氧化铝单层膜硅片的厚度均为40nm。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
