[发明专利]金属工件表面光泽度的控制方法及金属薄膜的制备方法有效
申请号: | 202110790618.2 | 申请日: | 2021-07-13 |
公开(公告)号: | CN113529087B | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
发明(设计)人: | 邬登辉 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | G01N21/57 | 分类号: | G01N21/57;C23F3/00;G01R27/02 |
代理公司: | 北京名华博信知识产权代理有限公司 11453 | 代理人: | 韩闪闪 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 工件 表面 光泽 控制 方法 薄膜 制备 | ||
本公开提供了一种金属工件表面光泽度的控制方法以及制备金属薄膜的方法。金属工件表面光泽度的控制方法包括:提供金属工件;检测金属工件的表面光泽度,得到第一检测值;根据第一检测值不同,采用不同工艺对金属工件进行处理,使金属工件的表面光泽度达到生产需求。使用本公开的控制方法,提高金属工件的表面光泽度,从而改善所形成的金属薄膜的电阻率和膜厚均匀度。
技术领域
本公开涉及半导体集成电路领域,特别涉及金属工件表面光泽度的控制方法及金属薄膜的制备方法,具体涉及一种金属工件表面光泽度的控制方法、金属工件及金属薄膜的制备方法。
背景技术
在半导体集成电路的工艺中,尤其在采用化学气相沉积法制备金属薄膜的工艺中,设备反应室的环境变化会严重影响金属薄膜的性能,影响产品良率。在反应室中制备金属薄膜(如,晶圆)工艺中,随着使用时间及次数的增加,反应室中的金属工件表面逐渐变暗,光泽度下降。根据热辐射及热反射理论,金属工件表面光泽度将直接影响到金属薄膜成膜的温度,从而影响金属薄膜的电阻率以及膜厚均匀度,尤其是在较小反应空间的真空工艺中更为明显,对于纳米级的工艺,些许温度变化将直接造成产品异常,影响晶圆的良品率。现有的解决方法主要是更换新料件或调节工艺温度改善,但是现有的解决方法会提高生产成本,降低工艺的稳定度且工艺质量不可控;此外,由于并没有针对不同的工艺温度具体研究过适用的金属工件表面光泽度,工艺温度的调节则会影响到产品电性,比如,工艺温度调节超过5℃将造成电极板漏电等异常情况。
发明内容
以下是对本公开详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。
本公开提供一种金属工件表面光泽度的控制方法、一种金属工件及一种金属薄膜的制备方法。
根据本公开的第一个方面,提供一种金属工件表面光泽度的控制方法,所述控制方法包括:
提供金属工件;
检测所述金属工件的表面光泽度,得到第一检测值;
当所述第一检测值小于等于第一阈值时,采用第一处理工艺对所述金属工件进行处理,使所述金属工件的表面光泽度不小于第二阈值;
当所述第一检测值大于第一阈值且小于第二阈值时,采用第二处理工艺对所述金属工件进行处理,使所述金属工件的表面光泽度不小于第二阈值;
当所述第一检测值大于等于第二阈值时,对所述金属工件不进行处理,使所述金属工件的表面光泽度不小于第二阈值。
根据本公开的一些实施例,所述检测所述金属工件的表面光泽度得到第一检测值的方法包括:
对所述金属工件的多个表面区域进行光泽度检测,得到多个光泽度检测值,根据所述多个光泽度检测值得到光泽度平均检测值,将所述光泽度平均检测值作为第一检测值。
根据本公开的一些实施例,所述检测所述金属工件的表面光泽度得到第一检测值的方法包括:
对所述金属工件的多个表面区域进行光泽度检测,得到多个光泽度检测值,通过比较多个光泽度检测值的大小得到光泽度最小检测值,将所述光泽度最小检测值作为第一检测值。
根据本公开的一些实施例,所述采用第一处理工艺对所述金属工件进行处理的方法包括:
将所述金属工件先置于第一酸液中处理15~25min,取出后置于第一碱液中处理20~40min,然后取出置于第二酸液中处理5~15s;
检测经过处理的金属工件的表面光泽度,得到第二检测值;
如果第二检测值小于第二阈值,将经过处理的金属工件再置于所述第二酸液中处理5~15s,然后检测新处理的金属工件的表面光泽度,将新得到的表面光泽度数值取代之前的第二检测值,作为第二检测值,直到第二检测值不小于第二阈值。
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