[发明专利]一种基于屏蔽材料直接制作的电磁线圈结构

权利要求书

1.一种基于屏蔽材料直接制作的电磁线圈结构，其特征在于：包括基材（1）、线圈（2）、跳线（3），所述基材（1）为屏蔽材料，所述基材（1）上方设有与之直接接触的线圈（2），下方设有与之直接接触的跳线（3），所述基材（1）上设有贯穿基材（1）的走线过孔（4），所述线圈（2）与跳线（3）通过走线过孔（4）连通。

2.根据权利要求1所述的一种基于屏蔽材料直接制作的电磁线圈结构，其特征在于：所述基材（1）采用铁氧体、纳米晶或者非晶作为屏蔽材料。

3.根据权利要求1所述的一种基于屏蔽材料直接制作的电磁线圈结构，其特征在于：所述线圈（2）为等间距螺旋布置的圆形、椭圆形或者四边形结构。

4.根据权利要求3所述的一种基于屏蔽材料直接制作的电磁线圈结构，其特征在于：所述线圈（2）外端口设有第一连接片（5），所述第一连接片（5）一侧设有与之平行设置的第二连接片（6）。

5.根据权利要求4所述的一种基于屏蔽材料直接制作的电磁线圈结构，其特征在于：所述走线过孔（4）设有两个，分别为位于线圈（2）内侧的第一走线过孔（41）和位于线圈（2）外侧的第二走线过孔（42），所述线圈（2）的内端口依次通过第一走线过孔（41）、跳线（3）、第二走线过孔（42）与第二连接片（6）连接。

6.根据权利要求1所述的一种基于屏蔽材料直接制作的电磁线圈结构，其特征在于：所述线圈（2）和跳线（3）采用液态金属或者纳米银材料，所述走线过孔（4）内的填充材料与线圈（2）相同。

7.根据权利要求1或者6所述的一种基于屏蔽材料直接制作的电磁线圈结构，其特征在于： 所述线圈（2）和跳线（3）通过印刷、镭射或者电镀工艺直接印在基材（1）上。

8.根据权利要求1所述的一种基于屏蔽材料直接制作的电磁线圈结构，其特征在于：所述线圈（2）、跳线（3）均为扁平结构。