[发明专利]一种高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料及其制备方法

权利要求书

1.一种高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料,其特征在于：所述高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料由碳化硅粉体，碳化硼粉体，丙烯酸低聚物，活性稀释剂，光引发剂，助引发剂，以及助剂组成，所述碳化硅粉体的重量百分比含量为66%～72%，所述碳化硼粉体的重量百分比含量为2%～2.2%，所述丙烯酸低聚物的重量百分比含量为2.1～5.7%，所述活性稀释剂的重量百分比含量为16.8%～24.9%，所述光引发剂的重量百分比含量为1.29%～1.71%，所述助引发剂的重量百分比含量为0.21%～0.29%，所述助引发剂为叔胺型苯甲酸酯，所述叔胺型苯甲酸酯为N，N-二苯甲基甲酸乙酯、N,N-二甲基苯甲酸-2-乙基己酯和苯甲酸二甲氨基乙酯中的一种，所述助剂的重量百分比含量为2%～2.2%,所述活性稀释剂为自由基活性稀释剂和阳离子活性稀释剂，所述光引发剂由裂解型自由基光引发剂，夺氢型自由基光引发剂，以及阳离子光引发剂组成，所述裂解型自由基引发剂为α-氨基酮类及其衍生物，所述夺氢型自由基引发剂为硫杂蒽酮及其衍生物，所述阳离子引发剂为二芳基碘鎓盐类Ar₂I⁺MXn ^-,其中MXn=Cl、Br、BF₄、PF₆、AsF₆、SbF₆、B(C₆F₅)₄中的一种，相对于高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料的总重量，所述裂解型自由基光引发剂的重量百分比含量为0.65～0.85%，所述夺氢型自由基光引发剂的重量百分比含量为0.21～0.29%，以及所述阳离子光引发剂的重量百分比含量为0.43～0.57%。

2.如权利要求1所述的高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料,其特征在于:相对于高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料的重量，所述自由基活性稀释剂的重量百分比含量为12.6～19.2%，所述阳离子活性稀释剂的重量百分比含量为4.2～5.7%。

3.如权利要求2所述的高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料,其特征在于:所述自由基活性稀释剂为多官能团丙烯酸酯类单体，所述多官能团丙烯酸酯类单体为三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯中的一种或几种。

4.如权利要求2所述的高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料,其特征在于:所述阳离子活性稀释剂为氧杂环丁烷类单体，所述氧杂环丁烷类单体为3,3'-(氧基双亚甲基)双(3-乙基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-羟甲基氧杂环丁烷、双酚A氧杂环丁烷、4，4’-羟甲基联苯聚合物氧杂烷丁烷的一种或几种。

5.如权利要求1所述的高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料,其特征在于:所述碳化硅粉体为α型碳化硅，纯度大于99%，平均粒径在0.5～2.0μm，所述碳化硼粉体的粒径为0.4～1.8μm，纯度大于90%。

6.如权利要求1所述的高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料,其特征在于:所述丙烯酸低聚物为双酚A型环氧丙烯酸酯，粘度6000-8000cps，官能度为2。

7.如权利要求1所述的高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料,其特征在于:所述α-氨基酮类及其衍生物为2-苯基苄-2-二甲基胺-1-（4-吗啉苄苯基）丁酮、2-二甲氨基-2-(4-甲基)苄基-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮、2-二甲氨基-2-苄基-1-(4-哌啶苯基)-1-丁酮及2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉-1-丙酮中的一种。

8.如权利要求1所述的高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料,其特征在于:所述硫杂蒽酮及其衍生物为2-异丙基硫杂蒽酮（ITX）和2,4-二乙基硫杂蒽酮（DETX）中的一种。