[发明专利]清洁装置及半导体设备

权利要求书

1.一种清洁装置，其特征在于，用于对光栅尺进行清洁处理，包括：

喷淋装置，包括喷淋管道及喷淋物供给装置，所述喷淋物供给装置与所述喷淋管道相连接，用于向所述喷淋管道内提供喷淋物；所述喷淋管道上设有与所述喷淋管道内部相连通的喷口，所述喷口朝向所述光栅尺，用于向所述光栅尺喷淋所述喷淋物；

刷头清洁装置，位于所述光栅尺的正下方，用于对所述光栅尺进行清洁处理。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，多个所述喷口间隔排列，且相邻的所述喷口的边缘之间的间距为1cm～2cm。

3.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述喷淋管道的长度大于或等于所述光栅尺的长度。

4.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述喷淋装置还包括加热模块，用于对所述喷淋物进行加热处理。

5.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述喷淋物包括压缩空气，所述喷淋物供给装置包括空气压缩机。

6.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述刷头清洁装置包括：

清洁刷头，用于对所述光栅尺进行清洁处理；

驱动装置，与所述清洁刷头相连接，用于驱动所述清洁刷头沿所述光栅尺的长度方向移动。

7.根据权利要求6所述的清洁装置，其特征在于，所述驱动装置包括：

滑槽，位于所述光栅尺的下方，且与所述光栅尺平行；

刷头固定板，位于所述滑槽上；所述刷头固定板内设置有第一电机及第二电机；所述第二电机用于驱动所述刷头固定板沿所述滑槽移动；

摇杆，所述摇杆的第一端与所述第一电机连接，所述摇杆的第二端与所述清洁刷头相连接，所述摇杆在所述第一电机驱动下带动所述清洁刷头旋转。

8.根据权利要求7所述的清洁装置，其特征在于，所述滑槽上设有齿轮条，所述第二电机上设有齿轮，所述齿轮与所述齿轮条相咬合。

9.根据权利要求8所述的清洁装置，其特征在于，所述齿轮条的长度大于或等于所述光栅尺的长度；所述清洁刷头的宽度大于或等于所述光栅尺的宽度。

10.一种半导体设备，其特征在于，包括：

横梁；

冷却管路，位于所述横梁上；

光栅尺，位于所述横梁下方；

如权利要求1至9任一项所述的清洁装置，位于所述横梁下方，且位于所述横梁与所述光栅尺之间；

漏液检测带，位于所述横梁与所述喷淋管道之间，用于检测所述横梁是否存在漏液，并判断漏液位置。

11.根据权利要求10所述的半导体设备，其特征在于，所述漏液检测带包括金属线、回路电阻及报警控制器；所述金属线与所述回路电阻电连接；所述报警控制器与所述回路电阻电连接。

12.根据权利要求10所述的半导体设备，其特征在于，所述漏液包括异丙醇及/或纯净水。

13.根据权利要求10所述的半导体设备，其特征在于，所述漏液检测带为多个，多个所述漏液检测带分别分布于所述横梁的多个不同区域。

14.根据权利要求10所述的半导体设备，其特征在于，所述半导体设备还包括漏液收集装置，位于所述漏液检测带与所述光栅尺之间。

15.根据权利要求14所述的半导体设备，其特征在于，所述漏测收集装置包括引流液槽、引流管、储液槽、排液管、排液控制装置及超声波探头，所述引流液槽位于所述漏液检测带与所述光栅尺之间；所述引流管的第一端与所述引流液槽连接，所述引流管的第二端置于所述储液槽内；所述超声波探头设置于所述储液槽的上方；所述排液管与厂务下水道相连接。